Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Modelling of dcMS and HiPIMS process with hydrocarbon gas admixture

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F22%3A00126228" target="_blank" >RIV/00216224:14310/22:00126228 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/ac7746" target="_blank" >https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/ac7746</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/ac7746" target="_blank" >10.1088/1361-6595/ac7746</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Modelling of dcMS and HiPIMS process with hydrocarbon gas admixture

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Magnetron sputtering in an argon and hydrocarbon gas mixture is a complex deposition process exhibiting features of both physical vapour deposition and plasma enhanced chemical vapour deposition. The hydrocarbon gas decomposes within the plasma and then it is able to form a carbide phase with the target metal atoms or to be deposited as amorphous carbon. In this paper, a simple model for both the direct current (dcMS) and the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) processes with hydrocarbon gas admixture is presented. The sputtered target racetrack is divided into metallic, compound, and carbon fractions to take into account both the carbide formation and the carbon deposition. To simulate the HiPIMS process, the back-attraction of ionised sputtered metal particles is incorporated into the model. The model is cross-validated with the previously published experiments which were conducted using the same deposition apparatus allowing for the direct comparison of the dcMS and HiPIMS processes. The simulated results correlate with the measured dependencies of the deposition rate, the carbon content in deposited films, and the racetrack fractions on the acetylene supply rate. The presented model is further successfully validated with the evolution of the racetrack composition calculated by SDTrimSP.

  • Název v anglickém jazyce

    Modelling of dcMS and HiPIMS process with hydrocarbon gas admixture

  • Popis výsledku anglicky

    Magnetron sputtering in an argon and hydrocarbon gas mixture is a complex deposition process exhibiting features of both physical vapour deposition and plasma enhanced chemical vapour deposition. The hydrocarbon gas decomposes within the plasma and then it is able to form a carbide phase with the target metal atoms or to be deposited as amorphous carbon. In this paper, a simple model for both the direct current (dcMS) and the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) processes with hydrocarbon gas admixture is presented. The sputtered target racetrack is divided into metallic, compound, and carbon fractions to take into account both the carbide formation and the carbon deposition. To simulate the HiPIMS process, the back-attraction of ionised sputtered metal particles is incorporated into the model. The model is cross-validated with the previously published experiments which were conducted using the same deposition apparatus allowing for the direct comparison of the dcMS and HiPIMS processes. The simulated results correlate with the measured dependencies of the deposition rate, the carbon content in deposited films, and the racetrack fractions on the acetylene supply rate. The presented model is further successfully validated with the evolution of the racetrack composition calculated by SDTrimSP.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2022

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Plasma Sources Science and Technology

  • ISSN

    0963-0252

  • e-ISSN

    1361-6595

  • Svazek periodika

    31

  • Číslo periodika v rámci svazku

    6

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    1-8

  • Kód UT WoS článku

    000818461500001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85133656194