Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Temporal, spatial and spectroscopic study of plasma emission on Cu target in bipolar HiPIMS

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F23%3A00131367" target="_blank" >RIV/00216224:14310/23:00131367 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1088/1361-6595/ace8b8" target="_blank" >https://doi.org/10.1088/1361-6595/ace8b8</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/ace8b8" target="_blank" >10.1088/1361-6595/ace8b8</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Temporal, spatial and spectroscopic study of plasma emission on Cu target in bipolar HiPIMS

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Bipolar high power impulse magnetron sputtering introduces new possibilities to affect positive ions created during the negative discharge pulse in order to tailor thin films with specific parameters. This paper studies plasma emission in different experimental conditions during different phases of the positive pulse with spectral, spatial and temporal resolution. It is found that predominantly the working gas gives rise to plasma emission during the positive pulse. The plasma emission is observed only in regions of low magnetic confinement, forming a 'mushroom-like' shape in the middle of the target or a 'dome-like' shape on the outer parts of the target. An explanation of the discharge kinetics is proposed based on the acquired data.

  • Název v anglickém jazyce

    Temporal, spatial and spectroscopic study of plasma emission on Cu target in bipolar HiPIMS

  • Popis výsledku anglicky

    Bipolar high power impulse magnetron sputtering introduces new possibilities to affect positive ions created during the negative discharge pulse in order to tailor thin films with specific parameters. This paper studies plasma emission in different experimental conditions during different phases of the positive pulse with spectral, spatial and temporal resolution. It is found that predominantly the working gas gives rise to plasma emission during the positive pulse. The plasma emission is observed only in regions of low magnetic confinement, forming a 'mushroom-like' shape in the middle of the target or a 'dome-like' shape on the outer parts of the target. An explanation of the discharge kinetics is proposed based on the acquired data.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2023

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Plasma Sources Science and Technology

  • ISSN

    0963-0252

  • e-ISSN

    1361-6595

  • Svazek periodika

    32

  • Číslo periodika v rámci svazku

    7

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    1-8

  • Kód UT WoS článku

    001041303300001

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85167692741