Enhancement of ionized metal flux fraction without compromising deposition rate in industrial magnetron sputtering
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F24%3A00136603" target="_blank" >RIV/00216224:14310/24:00136603 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897224007734?via%3Dihub" target="_blank" >https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897224007734?via%3Dihub</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2024.131142" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2024.131142</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Enhancement of ionized metal flux fraction without compromising deposition rate in industrial magnetron sputtering
Popis výsledku v původním jazyce
In industrial magnetron sputtering processes, large DC-driven cathodes are commonly employed. This work reports on industrially compatible technology, which allows for the increase in ionized metal flux fraction on the substrate in a controlled manner without sacrificing the deposition rate. From the long arc cathode positioned on the one-hand side of the magnetron cathode, electrons are drawn towards the anode on the other side. This arrangement induces a large volume secondary discharge that extends along the entire length of the magnetron cathode, effectively ionizing sputtered species as they traverse this discharge towards the substrate. With this setup, while sputtering titanium in an argon atmosphere under industrial conditions, up to 28% of ionized metal flux fraction was achieved on the substrate position. This technology significantly improves the quality of the deposited coating, including hardness, Young’s modulus, roughness and fracture resistance, as shown in the TiN case study.
Název v anglickém jazyce
Enhancement of ionized metal flux fraction without compromising deposition rate in industrial magnetron sputtering
Popis výsledku anglicky
In industrial magnetron sputtering processes, large DC-driven cathodes are commonly employed. This work reports on industrially compatible technology, which allows for the increase in ionized metal flux fraction on the substrate in a controlled manner without sacrificing the deposition rate. From the long arc cathode positioned on the one-hand side of the magnetron cathode, electrons are drawn towards the anode on the other side. This arrangement induces a large volume secondary discharge that extends along the entire length of the magnetron cathode, effectively ionizing sputtered species as they traverse this discharge towards the substrate. With this setup, while sputtering titanium in an argon atmosphere under industrial conditions, up to 28% of ionized metal flux fraction was achieved on the substrate position. This technology significantly improves the quality of the deposited coating, including hardness, Young’s modulus, roughness and fracture resistance, as shown in the TiN case study.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2024
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Surface and Coatings Technology
ISSN
0257-8972
e-ISSN
1879-3347
Svazek periodika
489
Číslo periodika v rámci svazku
August 2024
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
1-7
Kód UT WoS článku
001279392200001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85199377765