Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F20%3A00533965" target="_blank" >RIV/68378271:_____/20:00533965 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://doi.org/10.1116/1.5145292" target="_blank" >https://doi.org/10.1116/1.5145292</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.5145292" target="_blank" >10.1116/1.5145292</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The sideways (radial) deposition rate and ionized flux fraction in a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge are studied and compared to a dc magnetron sputtering (dcMS) discharge, while the magnetic field strength and degree of balancing are varied.

  • Název v anglickém jazyce

    Sideways deposition rate and ionized flux fraction in dc and high power impulse magnetron sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    The sideways (radial) deposition rate and ionized flux fraction in a high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) discharge are studied and compared to a dc magnetron sputtering (dcMS) discharge, while the magnetic field strength and degree of balancing are varied.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Vacuum Science & Technology A : Vacuum, Surfaces and Films

  • ISSN

    0734-2101

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    38

  • Číslo periodika v rámci svazku

    3

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    11

  • Strana od-do

    1-11

  • Kód UT WoS článku

    000529407100003

  • EID výsledku v databázi Scopus

    2-s2.0-85084281981