Plasma and floating potentials in magnetron discharges

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F17%3A43932284" target="_blank" >RIV/49777513:23520/17:43932284 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.4992054" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1116/1.4992054</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1116/1.4992054" target="_blank" >10.1116/1.4992054</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasma and floating potentials in magnetron discharges

Popis výsledku v původním jazyce

This letter reports on great differences in values of the plasma Up and floating Ufl potentials in sputtering discharges generated by single and dual magnetrons. It is shown that (i) the differences in Up and Ufl result in strongly different properties of films sputtered by single and dual magnetrons at the same power delivered to the magnetron discharge, (ii) in the direct current single and dual magnetron discharges, the values of Up and Ufl strongly depend on the electric conductivity of the surface of the grounded deposition chamber, and (iii) a pulsed dual magnetron with a closed magnetic field B is the only one sputtering system, which enables us to sputter the films with fully reproducible properties.

Název v anglickém jazyce

Plasma and floating potentials in magnetron discharges

Popis výsledku anglicky

This letter reports on great differences in values of the plasma Up and floating Ufl potentials in sputtering discharges generated by single and dual magnetrons. It is shown that (i) the differences in Up and Ufl result in strongly different properties of films sputtered by single and dual magnetrons at the same power delivered to the magnetron discharge, (ii) in the direct current single and dual magnetron discharges, the values of Up and Ufl strongly depend on the electric conductivity of the surface of the grounded deposition chamber, and (iii) a pulsed dual magnetron with a closed magnetic field B is the only one sputtering system, which enables us to sputter the films with fully reproducible properties.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/LO1506" target="_blank" >LO1506: Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnost</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Vacuum Science and Technology A

ISSN

0734-2101

e-ISSN

—

Svazek periodika

35

Číslo periodika v rámci svazku

6

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

„060605-1“-„060605-6“

Kód UT WoS článku

000415685300005

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85029873918