Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F19%3A43955811" target="_blank" >RIV/49777513:23520/19:43955811 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.03.028" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.03.028</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2019.03.028" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2019.03.028</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

The article reports on the investigation of mechanical properties of Si-rich (Zr, Si) alloy films deposited by magnetron sputtering. The main aim of this investigation is to develop flexible hard (Zr, Si) alloy films with enhanced resistance to cracking. The (Zr, Si) films were formed by a pulsed dual magnetron discharge. Mechanical properties and elemental composition of sputtered (Zr, Si) films were tuned by a negative substrate bias, i.e. by the energy delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that using of pulsed dual magnetron discharge makes it possible to deposit flexible hard (Zr, Si) alloy films with high values of hardness H ≈ 20 GPa, ratio H/E* &gt; 0.1, elastic recovery We &gt; 60%, compressive macrostress and dense, voids-free microstructure. These alloy films contain the same amount of Zr and Si in at.% and exhibit strongly enhanced resistance to cracking.

Název v anglickém jazyce

Flexible hard (Zr, Si) alloy films prepared by magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

The article reports on the investigation of mechanical properties of Si-rich (Zr, Si) alloy films deposited by magnetron sputtering. The main aim of this investigation is to develop flexible hard (Zr, Si) alloy films with enhanced resistance to cracking. The (Zr, Si) films were formed by a pulsed dual magnetron discharge. Mechanical properties and elemental composition of sputtered (Zr, Si) films were tuned by a negative substrate bias, i.e. by the energy delivered to the growing film by bombarding ions. It was found that using of pulsed dual magnetron discharge makes it possible to deposit flexible hard (Zr, Si) alloy films with high values of hardness H ≈ 20 GPa, ratio H/E* &gt; 0.1, elastic recovery We &gt; 60%, compressive macrostress and dense, voids-free microstructure. These alloy films contain the same amount of Zr and Si in at.% and exhibit strongly enhanced resistance to cracking.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/LO1506" target="_blank" >LO1506: Podpora udržitelnosti centra NTIS - Nové technologie pro informační společnost</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2019

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

688

Číslo periodika v rámci svazku

31 OCT 2019

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

7

Strana od-do

„137216-1“-„137216-7“

Kód UT WoS článku

000485256500020

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85063863136