Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Hard alloy films with enhanced resistance to cracking

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F20%3A43960447" target="_blank" >RIV/49777513:23520/20:43960447 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Hard alloy films with enhanced resistance to cracking

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The work reports on the mechanical properties of alloy films prepared by magnetron sputtering. It is known that alloy films easily crack due to a low ratio H/E* &lt; 0.1; here H is the hardness and E* is the effective Young’s modulus of the film. Cracking is a great drawback of alloy films as it strongly limits many of their practical applications. Therefore, it is important to develop new advanced alloy films with high hardness and enhanced resistance to cracking and that is the subject of the present investigation. It is shown that hard alloy films resistant to cracking must exhibit a high ratio H/E* ≥ 0.1, elastic recovery We &gt; 60 %, compressive macrostress (σ &lt; 0) and dense, voids-free microstructure. Deposition conditions under which such alloy films can be formed are given and mechanical properties of the Si-based hard alloy films with enhanced resistance to cracking are provided as examples.

  • Název v anglickém jazyce

    Hard alloy films with enhanced resistance to cracking

  • Popis výsledku anglicky

    The work reports on the mechanical properties of alloy films prepared by magnetron sputtering. It is known that alloy films easily crack due to a low ratio H/E* &lt; 0.1; here H is the hardness and E* is the effective Young’s modulus of the film. Cracking is a great drawback of alloy films as it strongly limits many of their practical applications. Therefore, it is important to develop new advanced alloy films with high hardness and enhanced resistance to cracking and that is the subject of the present investigation. It is shown that hard alloy films resistant to cracking must exhibit a high ratio H/E* ≥ 0.1, elastic recovery We &gt; 60 %, compressive macrostress (σ &lt; 0) and dense, voids-free microstructure. Deposition conditions under which such alloy films can be formed are given and mechanical properties of the Si-based hard alloy films with enhanced resistance to cracking are provided as examples.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20506 - Coating and films

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů