Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14330%2F03%3A00009229" target="_blank" >RIV/00216224:14330/03:00009229 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/00216224:14330/03:00008608
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO
Popis výsledku v původním jazyce
Hard diamond like carbon (DLC) films with an addition of SiOx were deposited by capacitively coupled rf discharges from mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). The flow rate was changed in order to vary the SiOx content in the films. Thickness of the films was determined by ellipsometry. FTIR spectra showed presence of C-H bonds as well as silicon bonded to hydrogen and hydrocarbon groups. In the region 630-900 cm-1 normalized absorbance was computed. It is shown that the concentration of silicon containing bonds grows with the flow rate of HMDSO growing.
Název v anglickém jazyce
Dependence of the Normalized Absorbance of the DLC:SiOx Thin Films on the Flow Rate of HMDSO
Popis výsledku anglicky
Hard diamond like carbon (DLC) films with an addition of SiOx were deposited by capacitively coupled rf discharges from mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). The flow rate was changed in order to vary the SiOx content in the films. Thickness of the films was determined by ellipsometry. FTIR spectra showed presence of C-H bonds as well as silicon bonded to hydrogen and hydrocarbon groups. In the region 630-900 cm-1 normalized absorbance was computed. It is shown that the concentration of silicon containing bonds grows with the flow rate of HMDSO growing.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F00%2FP037" target="_blank" >GA202/00/P037: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
JUNIORMAT 03
ISBN
80-214-2462-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
58
Název nakladatele
ÚMI VUT FSI v Brně ve spolupráci s Českou společností pro nové materiály a technologie
Místo vydání
Brno
Místo konání akce
23.-24. 9. 2003, Brno
Datum konání akce
—
Typ akce podle státní příslušnosti
—
Kód UT WoS článku
—