Charakterizace optických tenkých vrstev vykazující defekty
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14330%2F05%3A00013207" target="_blank" >RIV/00216224:14330/05:00013207 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Characterization of optical thin films exhibiting defects
Popis výsledku v původním jazyce
In this paper the mathematical formalism enabling us to include defects of thin films into the formulae expressing their optical quantities is presented. The attention is devoted to the defects consisting in boundary roughness and inhomogeneity corresponding to the refractive index profile. This mathematical formalism is based on 2x2 matrix algebra. The Rayleigh-Rice theory (RRT) is used for describing boundary roughness. The refractive index profile is included into the matrix formalism by means a special procedure based on combination of the Drude and Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffries (WKBJ) approximations. The mathematical formalism is applied for the optical characterization of thin films of TiO2 and As-S chalcogenides. Using this formalism the experimental data corresponding to the ellipsometric quantities, reflectance measured from the ambient side, reflectance measured from the substrate side and transmittance are treated. The corrections of the systematic errors connected with
Název v anglickém jazyce
Characterization of optical thin films exhibiting defects
Popis výsledku anglicky
In this paper the mathematical formalism enabling us to include defects of thin films into the formulae expressing their optical quantities is presented. The attention is devoted to the defects consisting in boundary roughness and inhomogeneity corresponding to the refractive index profile. This mathematical formalism is based on 2x2 matrix algebra. The Rayleigh-Rice theory (RRT) is used for describing boundary roughness. The refractive index profile is included into the matrix formalism by means a special procedure based on combination of the Drude and Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffries (WKBJ) approximations. The mathematical formalism is applied for the optical characterization of thin films of TiO2 and As-S chalcogenides. Using this formalism the experimental data corresponding to the ellipsometric quantities, reflectance measured from the ambient side, reflectance measured from the substrate side and transmittance are treated. The corrections of the systematic errors connected with
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA203%2F05%2F0524" target="_blank" >GA203/05/0524: Fotonická skla a amorfní vrstvy</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Advances in Optical Thin Films II
ISBN
0-8194-5981-X
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
12
Strana od-do
—
Název nakladatele
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Místo vydání
Bellingham, Washington, USA
Místo konání akce
September 13-15, 2005, Jena, Germany
Datum konání akce
1. 1. 2005
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—