Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14740%2F11%3A00050295" target="_blank" >RIV/00216224:14740/11:00050295 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68081723:_____/11:00371107
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201184263" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201184263</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1002/pssa.201184263" target="_blank" >10.1002/pssa.201184263</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques
Popis výsledku v původním jazyce
The results of a study of oxide precipitates in Czochralski (CZ) grown silicon using two X-ray diffraction methods are reported. The diffuse scattering around the Bragg diffraction maxima was measured on a series of samples after various two-stage annealing treatment. Combining the analysis of diffuse scattering with other experimental techniques we were able to determine mean precipitate size and deformation field around the precipitates. The obtained data show that the deformation field is proportional to the precipitate volume and independent on the annealing temperature or annealing time. The dynamical diffraction in Laue geometry was used to measure precipitate concentration. The results are compared to the selective etching concentration measurement.
Název v anglickém jazyce
Study of oxide precipitates in silicon using X-ray diffraction techniques
Popis výsledku anglicky
The results of a study of oxide precipitates in Czochralski (CZ) grown silicon using two X-ray diffraction methods are reported. The diffuse scattering around the Bragg diffraction maxima was measured on a series of samples after various two-stage annealing treatment. Combining the analysis of diffuse scattering with other experimental techniques we were able to determine mean precipitate size and deformation field around the precipitates. The obtained data show that the deformation field is proportional to the precipitate volume and independent on the annealing temperature or annealing time. The dynamical diffraction in Laue geometry was used to measure precipitate concentration. The results are compared to the selective etching concentration measurement.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
physica status solidi (a), Applied research
ISSN
1862-6300
e-ISSN
—
Svazek periodika
208
Číslo periodika v rámci svazku
11
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
2587-2590
Kód UT WoS článku
000297514200018
EID výsledku v databázi Scopus
—