Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Crystallization behavior of RF magnetron sputtered Ge2Sb2.3Te4Se thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F12%3A39895998" target="_blank" >RIV/00216275:25310/12:39895998 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Crystallization behavior of RF magnetron sputtered Ge2Sb2.3Te4Se thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Thin amorphous Ge-Sb-Te-Se films were deposited by RF (f = 13.56 MHz) magnetron sputtering of Ge2Sb2.3Te4Se target in argon plasma. Feasibility of prepared thin films for PC-RAM application was tested via four-point probe measurement of temperature dependence of sheet resistance known as Van der Pauw technique. As-deposited and thermally treated thin films were characterized by the same way. Composition, chemical homogeneity and surface morphology were studied by Energy Dispersive X-Ray analysis coupledwith Scanning Electron Microscopy (SEM-EDX) whilst crystallinity was determined by X-Ray diffraction (XRD). Moreover, optical properties of as-deposited thin films were determined due Variable Angle Spectroscopic Ellipsometry (VASE). Influence of deposition conditions or thermal treatment to composition, crystallinity and surface morphology were established. Profile of temperature dependence of sheet resistance and characteristic temperatures (e.g. crystallization temperature) were obta

  • Název v anglickém jazyce

    Crystallization behavior of RF magnetron sputtered Ge2Sb2.3Te4Se thin films

  • Popis výsledku anglicky

    Thin amorphous Ge-Sb-Te-Se films were deposited by RF (f = 13.56 MHz) magnetron sputtering of Ge2Sb2.3Te4Se target in argon plasma. Feasibility of prepared thin films for PC-RAM application was tested via four-point probe measurement of temperature dependence of sheet resistance known as Van der Pauw technique. As-deposited and thermally treated thin films were characterized by the same way. Composition, chemical homogeneity and surface morphology were studied by Energy Dispersive X-Ray analysis coupledwith Scanning Electron Microscopy (SEM-EDX) whilst crystallinity was determined by X-Ray diffraction (XRD). Moreover, optical properties of as-deposited thin films were determined due Variable Angle Spectroscopic Ellipsometry (VASE). Influence of deposition conditions or thermal treatment to composition, crystallinity and surface morphology were established. Profile of temperature dependence of sheet resistance and characteristic temperatures (e.g. crystallization temperature) were obta

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    CA - Anorganická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů