Pulsed laser deposited alumina thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F16%3A39901468" target="_blank" >RIV/00216275:25310/16:39901468 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.09.048" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.09.048</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2015.09.048" target="_blank" >10.1016/j.ceramint.2015.09.048</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Pulsed laser deposited alumina thin films

Popis výsledku v původním jazyce

Thin films of amorphous alumina were fabricated using pulsed laser deposition. Topography, structural, and optical properties of alumina films were investigated depending on process parameters, specifically deposition time under vacuum and partial pressure of argon. Deposited films present good uniformity with RMS roughness ranging from 0.35 to 2.50 nm. Alumina films with thickness lower than 40 nm deposited under vacuum present a non-negligible void content that induces a decrease of the effective refractive index of the layers. Furthermore, introduction of argon gas (at 5 x 10(-4) and 5 x 10(-2) mbar) during the deposition process induces grainy structure of the thin films documented by an increase of RMS roughness from 0.35 to 1.5 nm. A decrease of the alumina layers' refractive index is observed in the 300-7500 nm spectral range when increasing Ar pressure.

Název v anglickém jazyce

Pulsed laser deposited alumina thin films

Popis výsledku anglicky

Thin films of amorphous alumina were fabricated using pulsed laser deposition. Topography, structural, and optical properties of alumina films were investigated depending on process parameters, specifically deposition time under vacuum and partial pressure of argon. Deposited films present good uniformity with RMS roughness ranging from 0.35 to 2.50 nm. Alumina films with thickness lower than 40 nm deposited under vacuum present a non-negligible void content that induces a decrease of the effective refractive index of the layers. Furthermore, introduction of argon gas (at 5 x 10(-4) and 5 x 10(-2) mbar) during the deposition process induces grainy structure of the thin films documented by an increase of RMS roughness from 0.35 to 1.5 nm. A decrease of the alumina layers' refractive index is observed in the 300-7500 nm spectral range when increasing Ar pressure.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JH - Keramika, žáruvzdorné materiály a skla

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Ceramics International

ISSN

0272-8842

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

1177-1182

Kód UT WoS článku

000365367000021

EID výsledku v databázi Scopus

—