Depozice plazmových polymerů a jejich vrstevnatá struktura
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F06%3APU63486" target="_blank" >RIV/00216305:26310/06:PU63486 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of Single Plasma-Polymerized Vinyltriethoxysilane Films and their Layered Structure
Popis výsledku v původním jazyce
Plasma polymer films of vinyltriethoxysilane were prepared at the same deposition conditions but different film thicknesses and analyzed with respect to deposition rate, surface morphology and selected mechanical properties. The mean deposition rate decreased from 190 to 105 nm min-1 and the RMS roughness increased from 0.1 to 17.5 nm with film thickness ranging from 15.8 nm to 8.4 _m. The RMS roughness correlated to film thickness and the roughening coefficient was 0.92. Depth profiles of the elastic modulus and hardness revealed the gradient character of the films with thickness of up to 0.5 _m and a layered structure of a thicker film. Results enabled the reconstruction of a thicker film (> 0.5 _m) as the layered structure, which consists of a gradient interlayer at the substrate, a relatively homogeneous layer as the bulk, and gradient overlayer at the film surface.
Název v anglickém jazyce
Deposition of Single Plasma-Polymerized Vinyltriethoxysilane Films and their Layered Structure
Popis výsledku anglicky
Plasma polymer films of vinyltriethoxysilane were prepared at the same deposition conditions but different film thicknesses and analyzed with respect to deposition rate, surface morphology and selected mechanical properties. The mean deposition rate decreased from 190 to 105 nm min-1 and the RMS roughness increased from 0.1 to 17.5 nm with film thickness ranging from 15.8 nm to 8.4 _m. The RMS roughness correlated to film thickness and the roughening coefficient was 0.92. Depth profiles of the elastic modulus and hardness revealed the gradient character of the films with thickness of up to 0.5 _m and a layered structure of a thicker film. Results enabled the reconstruction of a thicker film (> 0.5 _m) as the layered structure, which consists of a gradient interlayer at the substrate, a relatively homogeneous layer as the bulk, and gradient overlayer at the film surface.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Japanese Journal of Applied Physics
ISSN
0021-4922
e-ISSN
—
Svazek periodika
45
Číslo periodika v rámci svazku
10B
Stát vydavatele periodika
JP - Japonsko
Počet stran výsledku
5
Strana od-do
8440-8444
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—