Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Depozice plazmových polymerů a jejich vrstevnatá struktura

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F06%3APU63486" target="_blank" >RIV/00216305:26310/06:PU63486 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Deposition of Single Plasma-Polymerized Vinyltriethoxysilane Films and their Layered Structure

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Plasma polymer films of vinyltriethoxysilane were prepared at the same deposition conditions but different film thicknesses and analyzed with respect to deposition rate, surface morphology and selected mechanical properties. The mean deposition rate decreased from 190 to 105 nm min-1 and the RMS roughness increased from 0.1 to 17.5 nm with film thickness ranging from 15.8 nm to 8.4 _m. The RMS roughness correlated to film thickness and the roughening coefficient was 0.92. Depth profiles of the elastic modulus and hardness revealed the gradient character of the films with thickness of up to 0.5 _m and a layered structure of a thicker film. Results enabled the reconstruction of a thicker film (> 0.5 _m) as the layered structure, which consists of a gradient interlayer at the substrate, a relatively homogeneous layer as the bulk, and gradient overlayer at the film surface.

  • Název v anglickém jazyce

    Deposition of Single Plasma-Polymerized Vinyltriethoxysilane Films and their Layered Structure

  • Popis výsledku anglicky

    Plasma polymer films of vinyltriethoxysilane were prepared at the same deposition conditions but different film thicknesses and analyzed with respect to deposition rate, surface morphology and selected mechanical properties. The mean deposition rate decreased from 190 to 105 nm min-1 and the RMS roughness increased from 0.1 to 17.5 nm with film thickness ranging from 15.8 nm to 8.4 _m. The RMS roughness correlated to film thickness and the roughening coefficient was 0.92. Depth profiles of the elastic modulus and hardness revealed the gradient character of the films with thickness of up to 0.5 _m and a layered structure of a thicker film. Results enabled the reconstruction of a thicker film (> 0.5 _m) as the layered structure, which consists of a gradient interlayer at the substrate, a relatively homogeneous layer as the bulk, and gradient overlayer at the film surface.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2006

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Japanese Journal of Applied Physics

  • ISSN

    0021-4922

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    45

  • Číslo periodika v rámci svazku

    10B

  • Stát vydavatele periodika

    JP - Japonsko

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    8440-8444

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus