Deposition of Ultrathin Films - Optimalisation of Ion Beam Optics

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F01%3APU22621" target="_blank" >RIV/00216305:26210/01:PU22621 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of Ultrathin Films - Optimalisation of Ion Beam Optics
Popis výsledku v původním jazyce
Direct Ion Beam Deposition is an advanced method for processing of thin films. Apparatus for this technique was developed in the Institute of Physical Engineering. The experiments with direct ion beam deposition showed necessity of improving ion optics.In this contribution, some results of ion beam optimization are presented and discussed.
Název v anglickém jazyce
Deposition of Ultrathin Films - Optimalisation of Ion Beam Optics
Popis výsledku anglicky
Direct Ion Beam Deposition is an advanced method for processing of thin films. Apparatus for this technique was developed in the Institute of Physical Engineering. The experiments with direct ion beam deposition showed necessity of improving ion optics.In this contribution, some results of ion beam optimization are presented and discussed.

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)