A Study of Thin Oxide Films by Ellipsometry and AR XPS

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F02%3APU29190" target="_blank" >RIV/00216305:26210/02:PU29190 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

A Study of Thin Oxide Films by Ellipsometry and AR XPS

Popis výsledku v původním jazyce

In the paper the application of a simple spectroscopic ellipsometer for ex situ and in situ studies on SiO2 films (incl. native oxides on Si) is reported. It is shown that the ellipsometer is a reliable tool for the monitoring of chemical etching of SiO2films with thicknesses above 10 nm. When the films become thinner, the results obtained under atmospheric conditions are strongly influenced by the contamination and roughness of their surface layers. The concentration profiles of these ultrathin fiilms(< 10 nm) were analysed by AR XPS. Further, the ability of the ellipsometer to monitor the removal of native oxides on an Si (111) surface by thermal flashing under UHV conditions is demonstrated as well.

Název v anglickém jazyce

A Study of Thin Oxide Films by Ellipsometry and AR XPS

Popis výsledku anglicky

In the paper the application of a simple spectroscopic ellipsometer for ex situ and in situ studies on SiO2 films (incl. native oxides on Si) is reported. It is shown that the ellipsometer is a reliable tool for the monitoring of chemical etching of SiO2films with thicknesses above 10 nm. When the films become thinner, the results obtained under atmospheric conditions are strongly influenced by the contamination and roughness of their surface layers. The concentration profiles of these ultrathin fiilms(< 10 nm) were analysed by AR XPS. Further, the ability of the ellipsometer to monitor the removal of native oxides on an Si (111) surface by thermal flashing under UHV conditions is demonstrated as well.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

—

Svazek periodika

34

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

531-534

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—