Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F09%3APR24293" target="_blank" >RIV/00216305:26210/09:PR24293 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    IonProfile

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Soubor programů umožňující řízení hloubkových profiloměrů SIMS, TOF-LEIS a XPS. Jsou zde zahrnuty programy pro zpracování a simulace měřených dat metodou TOF-LEIS.

  • Název v anglickém jazyce

    IonProfile

  • Popis výsledku anglicky

    Software package for controlling of SIMS, TOF-SIMS and XPS profilometers. It includes software for evaluation and simulation of TOF-LEIS measured data.

Klasifikace

  • Druh

    R - Software

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GP202%2F07%2FP486" target="_blank" >GP202/07/P486: Hloubkové profilování 2D nanostruktur metodami SIMS, TOF-LEIS a XPS pomocí nízkoenergiového iontového odprašování</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    Software pro SIMS, LEIS a XPS

  • Technické parametry

    Programováno v Delphi 6.0

  • Ekonomické parametry

  • IČO vlastníka výsledku

    00216305

  • Název vlastníka

    Ústav fyzikálního inženýrství