Depth resolution enhancement by combined DSIMS and TOF-LEIS profiling
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F11%3APU90807" target="_blank" >RIV/00216305:26210/11:PU90807 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Depth resolution enhancement by combined DSIMS and TOF-LEIS profiling
Popis výsledku v původním jazyce
A combination of dynamic secondary ion mass spectroscopy (DSIMS) and time-of-flight low-energy ion scattering (TOF-LEIS) has been applied to acquire a composition depth profile of MoSi multilayers. During the sequential Ar+ sputtering secondary ions weremonitored while in-between the sputtering cycles the TOF-LEIS spectra of scattered He neutrals were acquired. All the measured TOF-LEIS spectra versus sputtering time were displayed in one bitmap from which the depth profiles for different scattering depths were derived and analyzed. Analyzing the TOF-LEIS spectra of He particles scattered from the areas below the layer altered by ion-beam mixing led to an improvement of the depth resolution. In this way the resolution limits due to mixing phenomena can be overcome. Finally, the direct comparison of the DSIMS and TOF-LEIS depth profiles was carried out.
Název v anglickém jazyce
Depth resolution enhancement by combined DSIMS and TOF-LEIS profiling
Popis výsledku anglicky
A combination of dynamic secondary ion mass spectroscopy (DSIMS) and time-of-flight low-energy ion scattering (TOF-LEIS) has been applied to acquire a composition depth profile of MoSi multilayers. During the sequential Ar+ sputtering secondary ions weremonitored while in-between the sputtering cycles the TOF-LEIS spectra of scattered He neutrals were acquired. All the measured TOF-LEIS spectra versus sputtering time were displayed in one bitmap from which the depth profiles for different scattering depths were derived and analyzed. Analyzing the TOF-LEIS spectra of He particles scattered from the areas below the layer altered by ion-beam mixing led to an improvement of the depth resolution. In this way the resolution limits due to mixing phenomena can be overcome. Finally, the direct comparison of the DSIMS and TOF-LEIS depth profiles was carried out.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B
ISSN
0168-583X
e-ISSN
—
Svazek periodika
269
Číslo periodika v rámci svazku
3
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—