FIB-SIMS quantification using TOF-SIMS with Ar and Xe plasma sources

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26210%2F14%3APU111413" target="_blank" >RIV/00216305:26210/14:PU111413 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/sia.5483" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1002/sia.5483</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/sia.5483" target="_blank" >10.1002/sia.5483</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

FIB-SIMS quantification using TOF-SIMS with Ar and Xe plasma sources

Popis výsledku v původním jazyce

A novel time of flight SIMS analyzer provides a new approach to SIMS analysis as an addition to a focused ion beam SEM instrument. The combination of this analyzer with a high current plasma ion source offers new opportunities for analysis, particularly in the study of coatings, which require ultra-deep profiling. Use of this instrumentation showed the ability to detect and quantify a number of elements. Quantification was obtained for Li, Na, K ion implanted in Si and for B in a sample with known concentration. Use of the electron beam from the electron column permitted analysis of 300-nm SiO2/Si implanted with BF2.

Název v anglickém jazyce

FIB-SIMS quantification using TOF-SIMS with Ar and Xe plasma sources

Popis výsledku anglicky

A novel time of flight SIMS analyzer provides a new approach to SIMS analysis as an addition to a focused ion beam SEM instrument. The combination of this analyzer with a high current plasma ion source offers new opportunities for analysis, particularly in the study of coatings, which require ultra-deep profiling. Use of this instrumentation showed the ability to detect and quantify a number of elements. Quantification was obtained for Li, Na, K ion implanted in Si and for B in a sample with known concentration. Use of the electron beam from the electron column permitted analysis of 300-nm SiO2/Si implanted with BF2.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

<a href="/cs/project/7E12087" target="_blank" >7E12087: Universal SEM as a multi-nano-analytic tool - UnivSEM</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

1096-9918

Svazek periodika

46

Číslo periodika v rámci svazku

S1

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

285-287

Kód UT WoS článku

000345696200071

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-84912130504