Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Early Access Tools - Integration of TCAD Tools and Fabrication

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F03%3APU39341" target="_blank" >RIV/00216305:26220/03:PU39341 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Early Access Tools - Integration of TCAD Tools and Fabrication

  • Popis výsledku v původním jazyce

    To develop a powerful TCAD( Technology CAD ) package the two main problems are to be solved. The first one is to extract device model parameter values from front-end technological parameters. The second problem to be solved is to calibrate TCAD softwareto specific tools and process modules to give a fast, accurate and reliable method of evaluating and optimizing process conditions without the need to run numerous test wafers. At present the exploitation of the TCAD tools to solve these problems is undder study, and it seems to be just the beginning of a path that provides a new realm of highly accurate device performance modeling. The approaches to integrate process, device and circuit simulation TCAD tools are reviewed and examples to solve these problems by leading TCAD vendors are presented.

  • Název v anglickém jazyce

    Early Access Tools - Integration of TCAD Tools and Fabrication

  • Popis výsledku anglicky

    To develop a powerful TCAD( Technology CAD ) package the two main problems are to be solved. The first one is to extract device model parameter values from front-end technological parameters. The second problem to be solved is to calibrate TCAD softwareto specific tools and process modules to give a fast, accurate and reliable method of evaluating and optimizing process conditions without the need to run numerous test wafers. At present the exploitation of the TCAD tools to solve these problems is undder study, and it seems to be just the beginning of a path that provides a new realm of highly accurate device performance modeling. The approaches to integrate process, device and circuit simulation TCAD tools are reviewed and examples to solve these problems by leading TCAD vendors are presented.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA102%2F03%2F0720" target="_blank" >GA102/03/0720: Identifikace parametrů modelů polovodičových struktur</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Electronic Devices and Systems 2003 - Proceedings

  • ISBN

    80-214-2452-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    270-275

  • Název nakladatele

    Novotný-Brno

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    9. 9. 2003

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku