Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Zdroj pro Pulsní Magnetronové Naprašování.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F05%3APU54534" target="_blank" >RIV/00216305:26220/05:PU54534 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Zdroj pro Pulsní Magnetronové Naprašování.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    An experimental pulse power supply source for magnetron pulse sputtering has been designed and built. Maximal mean power is 750 W with peak power capability up to 3 kW. The testing was performed on the own design magnetron sputterinng device with good cooling capability. Cathode voltage and cathode current were recorded during the ON-Pulse and during the OFF-Pulse. Operating at low frequency range the magnetron voltage seemed to have square-wave characteristics. Monitoring the target current and voltagee waveforms during pulse operation shows that transient spikes occure and the waveforms differ from this idealized behavior. At the beginning of the ON-Pulse, there is a voltage spike which brings high energy electrons into the magnetron discharge. Because the discharge current is low in the starting part of the ON-Pulse species created in this time are supposed to be more favorable for the generation of radicals than for sputtering. During the Off-Pulse the discharge current first decay

  • Název v anglickém jazyce

    Pulse Power Source for Magnetron Sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    An experimental pulse power supply source for magnetron pulse sputtering has been designed and built. Maximal mean power is 750 W with peak power capability up to 3 kW. The testing was performed on the own design magnetron sputterinng device with good cooling capability. Cathode voltage and cathode current were recorded during the ON-Pulse and during the OFF-Pulse. Operating at low frequency range the magnetron voltage seemed to have square-wave characteristics. Monitoring the target current and voltagee waveforms during pulse operation shows that transient spikes occure and the waveforms differ from this idealized behavior. At the beginning of the ON-Pulse, there is a voltage spike which brings high energy electrons into the magnetron discharge. Because the discharge current is low in the starting part of the ON-Pulse species created in this time are supposed to be more favorable for the generation of radicals than for sputtering. During the Off-Pulse the discharge current first decay

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Mikrosyn. Nové trendy v mikroelektronických systémech a nanotechnologiích. Sborník seminare. Brno 12.12.2005

  • ISBN

    80-214-3116-4

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    105-110

  • Název nakladatele

    Nakl. Novotný

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    12. 12. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku