Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Pulsní zdroj pro magnetronové naprašování

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F05%3APU54614" target="_blank" >RIV/00216305:26220/05:PU54614 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Pulse power supply for magnetron sputtering.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    An experimental pulse power supply source for magnetron pulse sputtering has been designed and built. The mean power is 750 W with peak power capability up to 3 kW. The testing was performed on the own design magnetron sputtering device with good coolingcapability. Cathode voltage and cathode current were recorded during both ON-Pulse and OFF-Pulse. This monitoring of the target current and voltage shows that transient spikes occur and the waveforms differ from idealized behavior. The voltage spike at tthe beginning of the ON-Pulse brings high energy electrons into the magnetron discharge. Because the discharge current is low in the starting part of the ON-Pulse species created in this time are supposed to be more favorable for the generation of radicals than for sputtering. During the Off-Pulse the discharge current first decays rapidly and later more slowly to zero, but it is not falling to zero completely when the Off-Pulse is shorter than 10 &#956;s about. This two-step decay of t

  • Název v anglickém jazyce

    Pulse power supply for magnetron sputtering.

  • Popis výsledku anglicky

    An experimental pulse power supply source for magnetron pulse sputtering has been designed and built. The mean power is 750 W with peak power capability up to 3 kW. The testing was performed on the own design magnetron sputtering device with good coolingcapability. Cathode voltage and cathode current were recorded during both ON-Pulse and OFF-Pulse. This monitoring of the target current and voltage shows that transient spikes occur and the waveforms differ from idealized behavior. The voltage spike at tthe beginning of the ON-Pulse brings high energy electrons into the magnetron discharge. Because the discharge current is low in the starting part of the ON-Pulse species created in this time are supposed to be more favorable for the generation of radicals than for sputtering. During the Off-Pulse the discharge current first decays rapidly and later more slowly to zero, but it is not falling to zero completely when the Off-Pulse is shorter than 10 &#956;s about. This two-step decay of t

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Socrates Workshop

  • ISBN

    80-214-3042-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    163-168

  • Název nakladatele

    Nakl. Novotný

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Chania, Crete, Greece

  • Datum konání akce

    21. 9. 2005

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    CST - Celostátní akce

  • Kód UT WoS článku