Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Near-field photoelectric measurement of Si solar cells

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F09%3APU82379" target="_blank" >RIV/00216305:26220/09:PU82379 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Near-field photoelectric measurement of Si solar cells

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This paper treats of nondestructive local silicon solar cell sample measurement and characterization. Used method, harnessing scanning near field optical microscope in reflection regime with keying laser excitation, allows a localization and characterization of structure imperfections. Keyingless and keying optical excitation measurement methods are discussed. Low energy optical excitation permits measurement only in small range of I-V characteristics, where the shunt resistance is dominant. Described method has been adapted for the simultaneous measurement of sample surface topography, its optical properties as well as sample local photoelectric properties. Structure imperfections taking effect on current voltage characteristics were observed and itssize, photoelectric and electric properties were measured. Although the relationships of local imperfection with electric measurement were ascertained, their confirmation will be a subject of ongoing work.

  • Název v anglickém jazyce

    Near-field photoelectric measurement of Si solar cells

  • Popis výsledku anglicky

    This paper treats of nondestructive local silicon solar cell sample measurement and characterization. Used method, harnessing scanning near field optical microscope in reflection regime with keying laser excitation, allows a localization and characterization of structure imperfections. Keyingless and keying optical excitation measurement methods are discussed. Low energy optical excitation permits measurement only in small range of I-V characteristics, where the shunt resistance is dominant. Described method has been adapted for the simultaneous measurement of sample surface topography, its optical properties as well as sample local photoelectric properties. Structure imperfections taking effect on current voltage characteristics were observed and itssize, photoelectric and electric properties were measured. Although the relationships of local imperfection with electric measurement were ascertained, their confirmation will be a subject of ongoing work.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA102%2F08%2F1474" target="_blank" >GA102/08/1474: Lokální optická a elektrická charakterizace optoelektronických struktur s nanometrickým rozlišením</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2009

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    24th European Photovoltaic Solar Energy Conference Proceedings

  • ISBN

    3-936338-25-6

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    Neuveden

  • Místo vydání

    Hamburg, Germany

  • Místo konání akce

    Hamburg

  • Datum konání akce

    20. 9. 2009

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku