Near-field photoelectric measurement of Si solar cells
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F09%3APU82379" target="_blank" >RIV/00216305:26220/09:PU82379 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Near-field photoelectric measurement of Si solar cells
Popis výsledku v původním jazyce
This paper treats of nondestructive local silicon solar cell sample measurement and characterization. Used method, harnessing scanning near field optical microscope in reflection regime with keying laser excitation, allows a localization and characterization of structure imperfections. Keyingless and keying optical excitation measurement methods are discussed. Low energy optical excitation permits measurement only in small range of I-V characteristics, where the shunt resistance is dominant. Described method has been adapted for the simultaneous measurement of sample surface topography, its optical properties as well as sample local photoelectric properties. Structure imperfections taking effect on current voltage characteristics were observed and itssize, photoelectric and electric properties were measured. Although the relationships of local imperfection with electric measurement were ascertained, their confirmation will be a subject of ongoing work.
Název v anglickém jazyce
Near-field photoelectric measurement of Si solar cells
Popis výsledku anglicky
This paper treats of nondestructive local silicon solar cell sample measurement and characterization. Used method, harnessing scanning near field optical microscope in reflection regime with keying laser excitation, allows a localization and characterization of structure imperfections. Keyingless and keying optical excitation measurement methods are discussed. Low energy optical excitation permits measurement only in small range of I-V characteristics, where the shunt resistance is dominant. Described method has been adapted for the simultaneous measurement of sample surface topography, its optical properties as well as sample local photoelectric properties. Structure imperfections taking effect on current voltage characteristics were observed and itssize, photoelectric and electric properties were measured. Although the relationships of local imperfection with electric measurement were ascertained, their confirmation will be a subject of ongoing work.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA102%2F08%2F1474" target="_blank" >GA102/08/1474: Lokální optická a elektrická charakterizace optoelektronických struktur s nanometrickým rozlišením</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
24th European Photovoltaic Solar Energy Conference Proceedings
ISBN
3-936338-25-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
—
Název nakladatele
Neuveden
Místo vydání
Hamburg, Germany
Místo konání akce
Hamburg
Datum konání akce
20. 9. 2009
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—