Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU89316" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU89316 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors
Popis výsledku v původním jazyce
The analysis of charge carrier transport in Ta capacitors in the temperature range from 10 to 400 K was performed. The main goal of this work was to determine the potential barriers on Ta-Ta2O5 and Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) interfaces in the device structures Ta- Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) and to find possible influence on the device quality and reliability. Tantalum capacitor is a MIS structure, where insulating Ta2O5 layer is formed on metallic Ta anode and the MnO2 or conducting polymer form cathodes. Decreasing the thickness of the insulating Ta2O5 layer below 100 nm, the classical physical models are not able to give satisfactory descriptions of charge transport mechanism, and voltage and temperature dependences of electrical current. Some quantum effects, as electron tunneling and quantum transitions of electrons from trapping centers levels to conduction band must be taken into account. The traps (oxygen vacancies, their concentration is of the order of 1018 cm-
Název v anglickém jazyce
Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors
Popis výsledku anglicky
The analysis of charge carrier transport in Ta capacitors in the temperature range from 10 to 400 K was performed. The main goal of this work was to determine the potential barriers on Ta-Ta2O5 and Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) interfaces in the device structures Ta- Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) and to find possible influence on the device quality and reliability. Tantalum capacitor is a MIS structure, where insulating Ta2O5 layer is formed on metallic Ta anode and the MnO2 or conducting polymer form cathodes. Decreasing the thickness of the insulating Ta2O5 layer below 100 nm, the classical physical models are not able to give satisfactory descriptions of charge transport mechanism, and voltage and temperature dependences of electrical current. Some quantum effects, as electron tunneling and quantum transitions of electrons from trapping centers levels to conduction band must be taken into account. The traps (oxygen vacancies, their concentration is of the order of 1018 cm-
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
CARTS Europe 2010
ISBN
0-7908-0151-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
10
Strana od-do
—
Název nakladatele
Electronic Components Association
Místo vydání
Munich, Germany
Místo konání akce
Munich
Datum konání akce
10. 11. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—