Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU89316" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU89316 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The analysis of charge carrier transport in Ta capacitors in the temperature range from 10 to 400 K was performed. The main goal of this work was to determine the potential barriers on Ta-Ta2O5 and Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) interfaces in the device structures Ta- Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) and to find possible influence on the device quality and reliability. Tantalum capacitor is a MIS structure, where insulating Ta2O5 layer is formed on metallic Ta anode and the MnO2 or conducting polymer form cathodes. Decreasing the thickness of the insulating Ta2O5 layer below 100 nm, the classical physical models are not able to give satisfactory descriptions of charge transport mechanism, and voltage and temperature dependences of electrical current. Some quantum effects, as electron tunneling and quantum transitions of electrons from trapping centers levels to conduction band must be taken into account. The traps (oxygen vacancies, their concentration is of the order of 1018 cm-

  • Název v anglickém jazyce

    Leakage Current and Quantum Effects in Tantalum Capacitors

  • Popis výsledku anglicky

    The analysis of charge carrier transport in Ta capacitors in the temperature range from 10 to 400 K was performed. The main goal of this work was to determine the potential barriers on Ta-Ta2O5 and Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) interfaces in the device structures Ta- Ta2O5-MnO2 (or conducting polymer) and to find possible influence on the device quality and reliability. Tantalum capacitor is a MIS structure, where insulating Ta2O5 layer is formed on metallic Ta anode and the MnO2 or conducting polymer form cathodes. Decreasing the thickness of the insulating Ta2O5 layer below 100 nm, the classical physical models are not able to give satisfactory descriptions of charge transport mechanism, and voltage and temperature dependences of electrical current. Some quantum effects, as electron tunneling and quantum transitions of electrons from trapping centers levels to conduction band must be taken into account. The traps (oxygen vacancies, their concentration is of the order of 1018 cm-

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    CARTS Europe 2010

  • ISBN

    0-7908-0151-5

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    10

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    Electronic Components Association

  • Místo vydání

    Munich, Germany

  • Místo konání akce

    Munich

  • Datum konání akce

    10. 11. 2010

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku