Using of Templates Base Method for Fabrication of Nanorods Structures for Electrochemicalsensing Elements

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F11%3APU95583" target="_blank" >RIV/00216305:26220/11:PU95583 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/00216305:26620/11:PU95583

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Using of Templates Base Method for Fabrication of Nanorods Structures for Electrochemicalsensing Elements

Popis výsledku v původním jazyce

The porous alumina attracts attention because of its self-ordered hexagonal structure. It can be used as a template nanosize structure, for many devices such as magnetic, electronic and optoelectronic. The aim of this method is preparation of the mask for electrodepositing nanowires directly on Si substrate. The presented technique without utilization of high-resolution electron-beam lithographs belongs to low-cost technology in the microelectronic industry. Anodic alumina has been prepared in several electrolytes by the anodization process and the characteristics of pore structures have been studied in different anodizing conditions. The thickness of aluminum film for anodization was 1-2 um. The two methods for deposition of aluminum thin film on Si substrate are thermal evaporating and sputtering. The prepared alumina structures have 15-30 nm pore diameters and 30-110 nm interpore distances.

Název v anglickém jazyce

Using of Templates Base Method for Fabrication of Nanorods Structures for Electrochemicalsensing Elements

Popis výsledku anglicky

The porous alumina attracts attention because of its self-ordered hexagonal structure. It can be used as a template nanosize structure, for many devices such as magnetic, electronic and optoelectronic. The aim of this method is preparation of the mask for electrodepositing nanowires directly on Si substrate. The presented technique without utilization of high-resolution electron-beam lithographs belongs to low-cost technology in the microelectronic industry. Anodic alumina has been prepared in several electrolytes by the anodization process and the characteristics of pore structures have been studied in different anodizing conditions. The thickness of aluminum film for anodization was 1-2 um. The two methods for deposition of aluminum thin film on Si substrate are thermal evaporating and sputtering. The prepared alumina structures have 15-30 nm pore diameters and 30-110 nm interpore distances.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

CG - Elektrochemie

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Sborník příspěvků - XI. pracovní setkání fyzikálních chemiků a elektrochemiků (id 19294)

ISBN

978-80-7375-514-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

133-163

Název nakladatele

Mendelu v Brně

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Brno

Datum konání akce

1. 6. 2011

Typ akce podle státní příslušnosti

CST - Celostátní akce

Kód UT WoS článku

—