The growth and dielectric properties of anodic films on porous-alumina-supported Ta-50wt.%Nb alloy layers
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F12%3APU101700" target="_blank" >RIV/00216305:26220/12:PU101700 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
The growth and dielectric properties of anodic films on porous-alumina-supported Ta-50wt.%Nb alloy layers
Popis výsledku v původním jazyce
Anodic mixed-oxide films are prepared on Ta-50wt.%Nb alloy layers magnetron sputtered over nanoporous anodic alumina substrates and examined as an alternative dielectric for electrolytic and integral capacitors. The dielectric and electrical phenomena revealed in the films are discussed in relation to their nano-morphology, crystalline structure and chemical composition.
Název v anglickém jazyce
The growth and dielectric properties of anodic films on porous-alumina-supported Ta-50wt.%Nb alloy layers
Popis výsledku anglicky
Anodic mixed-oxide films are prepared on Ta-50wt.%Nb alloy layers magnetron sputtered over nanoporous anodic alumina substrates and examined as an alternative dielectric for electrolytic and integral capacitors. The dielectric and electrical phenomena revealed in the films are discussed in relation to their nano-morphology, crystalline structure and chemical composition.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
CG - Elektrochemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
R - Projekt Ramcoveho programu EK
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů