Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Noise in Submicron Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors: Lateral Electron Density Distribution and Active Trap Position

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F12%3APU98589" target="_blank" >RIV/00216305:26220/12:PU98589 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Noise in Submicron Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors: Lateral Electron Density Distribution and Active Trap Position

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Experiments were carried out for the n-channel devices, processed in a 0.3 um spacer less Complementary Metal?Oxide?Semiconductor technology. Random-Telegraph-Signal measurements were performed for the constant gate voltage. It is supposed that electronconcentration in the channel decreases from the source to the drain contact. Lateral component of the electric field is inhomogeneous in the channel and it has a minimum value near the source and reaching the maximum value near the drain electrode. Draincurrent is given by two components ? diffusion and drift ones. Diffusion current component is independent on the x-coordinate and it is equal to the drift current component for the low electric field. The model explaining the experimentally observed capture time constant dependence on the lateral electric field and the trap position is given. From the dependence of the capture time constant tc on the drain current could be calculated x-coordinate of the trap position.

  • Název v anglickém jazyce

    Noise in Submicron Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors: Lateral Electron Density Distribution and Active Trap Position

  • Popis výsledku anglicky

    Experiments were carried out for the n-channel devices, processed in a 0.3 um spacer less Complementary Metal?Oxide?Semiconductor technology. Random-Telegraph-Signal measurements were performed for the constant gate voltage. It is supposed that electronconcentration in the channel decreases from the source to the drain contact. Lateral component of the electric field is inhomogeneous in the channel and it has a minimum value near the source and reaching the maximum value near the drain electrode. Draincurrent is given by two components ? diffusion and drift ones. Diffusion current component is independent on the x-coordinate and it is equal to the drift current component for the low electric field. The model explaining the experimentally observed capture time constant dependence on the lateral electric field and the trap position is given. From the dependence of the capture time constant tc on the drain current could be calculated x-coordinate of the trap position.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Japanese Journal of Applied Physics

  • ISSN

    0021-4922

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    2012 (51)

  • Číslo periodika v rámci svazku

    1

  • Stát vydavatele periodika

    JP - Japonsko

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    "024105-1"-"024105-5"

  • Kód UT WoS článku

    000300627200042

  • EID výsledku v databázi Scopus