Micromorphology of AlN Epilayers on Sapphire Substrates
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F17%3APU125080" target="_blank" >RIV/00216305:26220/17:PU125080 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dpi-proceedings.com/index.php/dtcse/issue/view/157" target="_blank" >http://dpi-proceedings.com/index.php/dtcse/issue/view/157</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.12783/dtcse/cece2017/14582" target="_blank" >10.12783/dtcse/cece2017/14582</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Micromorphology of AlN Epilayers on Sapphire Substrates
Popis výsledku v původním jazyce
The purpose of this paper was to describe the 3D nano-scaled surface topography of the aluminum nitride on sapphire. The structures were prepared by magnetron sputtering with heating of the sapphire substrate. The dependence of the layers topography on the substrate temperature was presented. Surface appearance was studied by atomic force microscopy (AFM). The quantitative topography data from AFM were used for surface characterization by fractal analysis and statistical parameters. The results of fractal analysis show the correlation of fractal dimension and statistical characteristics of surface topography. The data may contribute to manufacture of AlN thin films with desired surface characteristics.
Název v anglickém jazyce
Micromorphology of AlN Epilayers on Sapphire Substrates
Popis výsledku anglicky
The purpose of this paper was to describe the 3D nano-scaled surface topography of the aluminum nitride on sapphire. The structures were prepared by magnetron sputtering with heating of the sapphire substrate. The dependence of the layers topography on the substrate temperature was presented. Surface appearance was studied by atomic force microscopy (AFM). The quantitative topography data from AFM were used for surface characterization by fractal analysis and statistical parameters. The results of fractal analysis show the correlation of fractal dimension and statistical characteristics of surface topography. The data may contribute to manufacture of AlN thin films with desired surface characteristics.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
20201 - Electrical and electronic engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2017
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
DEStech Transactions on Computer Science and Engineering
ISBN
978-1-60595-476-9
ISSN
2475-8841
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
465-470
Název nakladatele
DEStech Publications, Inc.
Místo vydání
439 North Duke Street Lancaster, Pennsylvania 1
Místo konání akce
Sanya
Datum konání akce
25. 6. 2017
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—