Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Spectroscopic Monitoring of Plasma Deposition of Silane and Siloxane Based Thin Films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F03%3APU38239" target="_blank" >RIV/00216305:26310/03:PU38239 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Spectroscopic Monitoring of Plasma Deposition of Silane and Siloxane Based Thin Films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The spectroscopic studies have been focused on the basic characterization of the RF discharge conditions during the films deposition. In the discharge spectra many different species has been determined. To characterize the neutral gas temperature the small amount of nitrogen has been involved into the discharge. The dependencies of the temperature and the molecular excitations in the discharge have been initially studied on the total discharge power and gas composition. The correlation among the discharrge parameters and the final layer properties will be subject of the following studies.

  • Název v anglickém jazyce

    Spectroscopic Monitoring of Plasma Deposition of Silane and Siloxane Based Thin Films

  • Popis výsledku anglicky

    The spectroscopic studies have been focused on the basic characterization of the RF discharge conditions during the films deposition. In the discharge spectra many different species has been determined. To characterize the neutral gas temperature the small amount of nitrogen has been involved into the discharge. The dependencies of the temperature and the molecular excitations in the discharge have been initially studied on the total discharge power and gas composition. The correlation among the discharrge parameters and the final layer properties will be subject of the following studies.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Acta Physica Slovaca

  • ISSN

    0323-0465

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    53

  • Číslo periodika v rámci svazku

    5

  • Stát vydavatele periodika

    SK - Slovenská republika

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    401-405

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus