Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F03%3APU38244" target="_blank" >RIV/00216305:26310/03:PU38244 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films
Popis výsledku v původním jazyce
The spectroscopic studies have been focused on the basic characterization of the RF discharge conditions during the films deposition. In the discharge spectra many different species has been determined. To characterize the neutral gas temperature the small amount of nitrogen has been involved into the discharge. The dependencies of the temperature and the molecular excitations in the discharge have been initially studied on the total discharge power and gas composition. The correlation among the discharrge parameters and the final layer properties will be subject of the following studies.
Název v anglickém jazyce
Spectroscopic Observation of Plasma Deposition of Thin Silane and Siloxane Based Films
Popis výsledku anglicky
The spectroscopic studies have been focused on the basic characterization of the RF discharge conditions during the films deposition. In the discharge spectra many different species has been determined. To characterize the neutral gas temperature the small amount of nitrogen has been involved into the discharge. The dependencies of the temperature and the molecular excitations in the discharge have been initially studied on the total discharge power and gas composition. The correlation among the discharrge parameters and the final layer properties will be subject of the following studies.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics V
ISBN
NEUVEDENO
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
214-217
Název nakladatele
Universita Bari
Místo vydání
Bari
Místo konání akce
Spechia
Datum konání akce
1. 4. 2003
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—