Podmínky v nizkoteplotním Argonovém plazmatu v kontinuálním a pulzním módu.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F06%3APU58862" target="_blank" >RIV/00216305:26310/06:PU58862 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Burning conditions of nonthermal Ar plasma at continuous and pulsed mode

Popis výsledku v původním jazyce

A new capacitively coupling system has been developed for the plasma treatment and coating of planar substrates. The system with a bottom rotary electrode and an up- per grounded shower type electrode can be evacuated to the basic vacuum of 10-6 Pa usinga turbomolecular pump. A side load lock can be used to feed the bottom electrode by six substrates double-side polished silicon wafer 10x10x0.6mm3) using a magnetic drive. The reactor was equipped by an RF power supply of 1 000W (13.56 MHz) operated in continuous and pulsed mode. The distance between both the electrodes can be posi- tioned from 20mm to 60 mm. Discharge conditions of Ar plasma have been determined with respect to the argon Flow-rate (2 - 50 sccm), pressure (0:5 - 50Pa) and RF power of continuous (1 - 300W) and pulsed (0:1 - 300W) mode for two distances of the elec- trodes (30 and 60 mm). Processing chart pressure vs. power has been constructed in order to found out conditions for stable Ar{plasma. The stability of glow d

Název v anglickém jazyce

Burning conditions of nonthermal Ar plasma at continuous and pulsed mode

Popis výsledku anglicky

A new capacitively coupling system has been developed for the plasma treatment and coating of planar substrates. The system with a bottom rotary electrode and an up- per grounded shower type electrode can be evacuated to the basic vacuum of 10-6 Pa usinga turbomolecular pump. A side load lock can be used to feed the bottom electrode by six substrates double-side polished silicon wafer 10x10x0.6mm3) using a magnetic drive. The reactor was equipped by an RF power supply of 1 000W (13.56 MHz) operated in continuous and pulsed mode. The distance between both the electrodes can be posi- tioned from 20mm to 60 mm. Discharge conditions of Ar plasma have been determined with respect to the argon Flow-rate (2 - 50 sccm), pressure (0:5 - 50Pa) and RF power of continuous (1 - 300W) and pulsed (0:1 - 300W) mode for two distances of the elec- trodes (30 and 60 mm). Processing chart pressure vs. power has been constructed in order to found out conditions for stable Ar{plasma. The stability of glow d

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GP104%2F04%2FP138" target="_blank" >GP104/04/P138: Příprava vrstev plazmových polymerů s řízenými mechanickými vlastnostmi</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Czechoslovak Journal of Physics

ISSN

0011-4626

e-ISSN

—

Svazek periodika

56

Číslo periodika v rámci svazku

B

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

1320-1325

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—