In-situ Monitoring of Thin Film Depositon Process Using Optical Emission Spectroscopy
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F12%3APU99278" target="_blank" >RIV/00216305:26310/12:PU99278 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
In-situ Monitoring of Thin Film Depositon Process Using Optical Emission Spectroscopy
Popis výsledku v původním jazyce
Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has become more and more popular for thin film deposition, especially using organosilicon precursors. This work focuses on high density films deposited by PECVD using hexamethyldisiloxane precursor. Optical emission spectroscopy was used for plasma diagnostics. Oxygen transmission rate and infrared spectra of deposited layers were measured. Optimal experimental conditions for low carbon content layers and layers with good barrier properties were determined.
Název v anglickém jazyce
In-situ Monitoring of Thin Film Depositon Process Using Optical Emission Spectroscopy
Popis výsledku anglicky
Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) has become more and more popular for thin film deposition, especially using organosilicon precursors. This work focuses on high density films deposited by PECVD using hexamethyldisiloxane precursor. Optical emission spectroscopy was used for plasma diagnostics. Oxygen transmission rate and infrared spectra of deposited layers were measured. Optimal experimental conditions for low carbon content layers and layers with good barrier properties were determined.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/DF11P01OVV004" target="_blank" >DF11P01OVV004: Plazmochemické procesy a technologie pro konzervaci kovových archeologických předmětů</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Europhysics Conference Abstracts
ISBN
2-914771-74-6
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
"P3.5.71"-"P3.5.72"
Název nakladatele
EPS
Místo vydání
Lisbon
Místo konání akce
Viana do Castelo
Datum konání akce
10. 7. 2012
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—