Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Metody povrchové a tenkovrstvové analýzy prvkového složení (XPS, AES, SIMS), dirfrakce elektronů.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F11%3APU97268" target="_blank" >RIV/00216305:26620/11:PU97268 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Metody povrchové a tenkovrstvové analýzy prvkového složení (XPS, AES, SIMS), dirfrakce elektronů.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The goal of this article is to provide basic information on the physical principles and applications of the following mentioned methods. Chemical composition belongs to the basic characterization of materials used in many technological applications. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Auger electron spectroscopy (AES) are widely used for the investigation of chemical composition as well as of chemical state of solid surfaces. X-ray photoelectron diffraction (XPD) is a technique providing information on the detail crystallographic structure of single-crystal surfaces and epitaxial thin films of geometry of bonding ordered adsorbates. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) is more sensitive for measurement of low concentration species comparing tothe electron spectroscopy techniques and, in addition, it permits elemental and compositional depth profiling.

  • Název v anglickém jazyce

    Methods of surface and thin film analysisof chemical composition, photoelectron diffraction

  • Popis výsledku anglicky

    The goal of this article is to provide basic information on the physical principles and applications of the following mentioned methods. Chemical composition belongs to the basic characterization of materials used in many technological applications. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Auger electron spectroscopy (AES) are widely used for the investigation of chemical composition as well as of chemical state of solid surfaces. X-ray photoelectron diffraction (XPD) is a technique providing information on the detail crystallographic structure of single-crystal surfaces and epitaxial thin films of geometry of bonding ordered adsorbates. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) is more sensitive for measurement of low concentration species comparing tothe electron spectroscopy techniques and, in addition, it permits elemental and compositional depth profiling.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/LC06040" target="_blank" >LC06040: Struktury pro nanofotoniku a nanoelektroniku</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Materials Structure

  • ISSN

    1211-5894

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    2011

  • Číslo periodika v rámci svazku

    18

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

    251-257

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus