Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

In-depth Analysis of 10 nm Exynos Processor using Micro CT and FIB-SEM System

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F19%3APU132842" target="_blank" >RIV/00216305:26620/19:PU132842 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://www.ipfa-ieee.org/" target="_blank" >http://www.ipfa-ieee.org/</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    In-depth Analysis of 10 nm Exynos Processor using Micro CT and FIB-SEM System

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Latest technology nodes have made finer, more precise physical failure analysis techniques to emerge. Conventional techniques for larger technology nodes are slowly becoming ineffective. In this paper, we discuss effective yet non-invasive technique like micro CT where we get high fidelity images of the Exynos processor and complement it with further analysis using FIB-SEM systems-based preparation techniques like site-specific homogenous delayering, in-situ probing and TEM lamella preparation which enables failure analysis and reverse engineering techniques like nanoprobing and TEM imaging possible.

  • Název v anglickém jazyce

    In-depth Analysis of 10 nm Exynos Processor using Micro CT and FIB-SEM System

  • Popis výsledku anglicky

    Latest technology nodes have made finer, more precise physical failure analysis techniques to emerge. Conventional techniques for larger technology nodes are slowly becoming ineffective. In this paper, we discuss effective yet non-invasive technique like micro CT where we get high fidelity images of the Exynos processor and complement it with further analysis using FIB-SEM systems-based preparation techniques like site-specific homogenous delayering, in-situ probing and TEM lamella preparation which enables failure analysis and reverse engineering techniques like nanoprobing and TEM imaging possible.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20501 - Materials engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2019

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    IEEE International Symposium on the Physical and Failure Analysis of Integrated Circuits

  • ISBN

    978-1-7281-3552-6

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    1-4

  • Název nakladatele

    Neuveden

  • Místo vydání

    neuveden

  • Místo konání akce

    Hangzhou

  • Datum konání akce

    2. 6. 2019

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000541473300130