Process of Advanced Epitaxial Growth (AEPI) on 150 and 200 mm Silicon substrates.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F26821532%3A_____%2F13%3A%230000061" target="_blank" >RIV/26821532:_____/13:#0000061 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Process of Advanced Epitaxial Growth (AEPI) on 150 and 200 mm Silicon substrates.
Popis výsledku v původním jazyce
Proces pokročilého epitaxního růstu (AEPI) na 150 a 200 mm křemíkových substrátech umožňující dosažení minimální variability tloušťky a elektrického měrného odporu epitaxní vrstvy a minimálního počtu světlo rozptylujících defektů na povrchu desky.
Název v anglickém jazyce
Proces AEPI - pokročilý epitaxní růst na křemíkovém substrátu průměru 150 a 200 mm.
Popis výsledku anglicky
The process of Advanced Epitaxial Growth (AEPI) on 150 and 200 mm Silicon substrates for achievement of minimal epitaxial layer thickness and resistivity variability as well as minimal count of surface Localized Light Scatterers (LLS).
Klasifikace
Druh
Z<sub>tech</sub> - Ověřená technologie
CEP obor
JJ - Ostatní materiály
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/FR-TI3%2F031" target="_blank" >FR-TI3/031: Výzkum a vývoj technologií výroby nových typů křemíkových desek</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
AEPI
Číselná identifikace
—
Technické parametry
150&200 mm AEPI, LLS 100% of wafer - max. 30 >0.30 um, LLS 90% of wafer - max. 20 >0.30 um, TTV AEPI max. 2%, RRV AEPI max. 4%.
Ekonomické parametry
Cena <100USD/AEPI deska
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
26821532
Název vlastníka
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o., právní nástupce
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—