The Combined Study of the HMSDO Layers by RBS, ERDA and AFM Analytical Methods obtained from PECVD and PACVD
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F03%3A00002311" target="_blank" >RIV/44555601:13430/03:00002311 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
The Combined Study of the HMSDO Layers by RBS, ERDA and AFM Analytical Methods obtained from PECVD and PACVD
Popis výsledku v původním jazyce
In this work, we have studied the composition and surface morphology of the HMSDO layers produced by plasma deposition through three separate processes: a RF Inductively Coupled Plasma (RFICP), a Microwave Distributed ECR plasma, and a Microwave InducedRemote nitrogen Afterglow (MIRA). A thin layer (1000 A) and a thicker one (1 ?m) obtained from polymerisation of Hexa- and Treta-methyledisiloxane compounds to evaluate the resulting quality of the films in term of growth and sensitivity to the process type. We investigated two sets of the samples, one set prepared on the silicon substrate and the second set on the polypropylene substrate. The layer composition was investigated by Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) and by Elastic Recoil Detection Analysis (ERDA) and the layer surface morphology was determined by AFM.
Název v anglickém jazyce
The Combined Study of the HMSDO Layers by RBS, ERDA and AFM Analytical Methods obtained from PECVD and PACVD
Popis výsledku anglicky
In this work, we have studied the composition and surface morphology of the HMSDO layers produced by plasma deposition through three separate processes: a RF Inductively Coupled Plasma (RFICP), a Microwave Distributed ECR plasma, and a Microwave InducedRemote nitrogen Afterglow (MIRA). A thin layer (1000 A) and a thicker one (1 ?m) obtained from polymerisation of Hexa- and Treta-methyledisiloxane compounds to evaluate the resulting quality of the films in term of growth and sensitivity to the process type. We investigated two sets of the samples, one set prepared on the silicon substrate and the second set on the polypropylene substrate. The layer composition was investigated by Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS) and by Elastic Recoil Detection Analysis (ERDA) and the layer surface morphology was determined by AFM.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Studium tenkých polymerních vrstev pomocí AFM a rozvoj metod diagnostiky plazmatu.</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of SAPP XIV, Post Deadline Papers
ISBN
80-8040-195-0
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
214-215
Název nakladatele
Military Academy
Místo vydání
Liptovský Mikuláš
Místo konání akce
Liptovský Mikuláš
Datum konání akce
13. 1. 2003
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—