Počáteční stadia růstu diamantových vrstev za nizkých teplot

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F08%3A00319717" target="_blank" >RIV/68378271:_____/08:00319717 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Early stage of diamond growth at low temperature

Popis výsledku v původním jazyce

We investigate the first stages of nanocrystalline diamond (NCD) thin film growth at low substrate temperature. NCD films were grown on silicon substrates by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) for 0?300 min at a temperature of 410°C. Stagnation of the AFM roughness indicates that the low temperature NCD growth is a) delayed due to the surface contamination of the used nanodiamond powder and b) possibly dominated by the growth in the lateral direction. XPS measurements showed thatthe measured surface exhibits changes from a multi-phase composite (seeding layer) to single phase one (NCD layer).

Název v anglickém jazyce

Early stage of diamond growth at low temperature

Popis výsledku anglicky

We investigate the first stages of nanocrystalline diamond (NCD) thin film growth at low substrate temperature. NCD films were grown on silicon substrates by microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) for 0?300 min at a temperature of 410°C. Stagnation of the AFM roughness indicates that the low temperature NCD growth is a) delayed due to the surface contamination of the used nanodiamond powder and b) possibly dominated by the growth in the lateral direction. XPS measurements showed thatthe measured surface exhibits changes from a multi-phase composite (seeding layer) to single phase one (NCD layer).

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2008

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Diamond and Related Materials

ISSN

0925-9635

e-ISSN

—

Svazek periodika

17

Číslo periodika v rámci svazku

7-10

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000259598300042

EID výsledku v databázi Scopus

—