Polymer surface modification enhanced by RF and Microwave organosilicon/O2 plasmas

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13430%2F03%3A00002336" target="_blank" >RIV/44555601:13430/03:00002336 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Polymer surface modification enhanced by RF and Microwave organosilicon/O2 plasmas

Popis výsledku v původním jazyce

Organosilicon polymers obtained from plasma processes can be used to obtain either barrier properties or to modify their surface energy. The surface sensitivity of such deposits to ageing and plasma or afterglows exposure is of basic interest to understand both the long time scale behaviour of the material and the role of oxidant plasmas on the growth of film then on the resulting surface. Like in polymers such as Polypropylene (PP), Polycarbonate (PC) and Polyimide (PI) and also silicon substrates havebeen covered with deposits resulting from polymerisation involving HMDSO/O2 mixtures in RF diode, RF helicon, microwave DECR or Microwave Induced Remote Afterglow (MIRA) reactors. Composition and morphology of the different films have been analyzed either by RBS, ERDA, XPS, SEM and AFM.

Název v anglickém jazyce

Polymer surface modification enhanced by RF and Microwave organosilicon/O2 plasmas

Popis výsledku anglicky

Organosilicon polymers obtained from plasma processes can be used to obtain either barrier properties or to modify their surface energy. The surface sensitivity of such deposits to ageing and plasma or afterglows exposure is of basic interest to understand both the long time scale behaviour of the material and the role of oxidant plasmas on the growth of film then on the resulting surface. Like in polymers such as Polypropylene (PP), Polycarbonate (PC) and Polyimide (PI) and also silicon substrates havebeen covered with deposits resulting from polymerisation involving HMDSO/O2 mixtures in RF diode, RF helicon, microwave DECR or Microwave Induced Remote Afterglow (MIRA) reactors. Composition and morphology of the different films have been analyzed either by RBS, ERDA, XPS, SEM and AFM.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/OC%20527.50" target="_blank" >OC 527.50: Studium tenkých polymerních vrstev pomocí AFM a rozvoj metod diagnostiky plazmatu.</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of 16th International Symposium on Plasma Chemistry

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

1

Strana od-do

382

Název nakladatele

University of Bari

Místo vydání

Bari

Místo konání akce

Taormina - Italy

Datum konání akce

22. 6. 2003

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—