Plazmové leptání organokřemíkových tenkých vrstev modifikovaných za různých podmínek aktivního a rozpadajícího se plazmatu

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389005%3A_____%2F05%3A00032087" target="_blank" >RIV/61389005:_____/05:00032087 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/44555601:13440/05:00003100

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Treatment of Organosilicon Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions

Popis výsledku v původním jazyce

The aim of this study is to investigate the transformation of organosilicon plasma polymer films (500 nm thick) upon exposure to oxygen rich plasmas and after-glow. Different organosilicon films (Si, O, C, H) deposited on silicon in RF inductively coupled, microwave distributed electron cyclotron resonance and microwave induced remote afterglow reactors, are considered. The analysis of the effect of these teratments which are achieved in the same reactors is done through a RBS study. The organic films are partially transformed into a inorganic SiOx ? like film, but the effects are shown to be quite different according to both the deposition process and post-treatment conditions.

Název v anglickém jazyce

Treatment of Organosilicon Thin Films by Exposure to Different O2 Based Plasma and Afterglow Conditions

Popis výsledku anglicky

The aim of this study is to investigate the transformation of organosilicon plasma polymer films (500 nm thick) upon exposure to oxygen rich plasmas and after-glow. Different organosilicon films (Si, O, C, H) deposited on silicon in RF inductively coupled, microwave distributed electron cyclotron resonance and microwave induced remote afterglow reactors, are considered. The analysis of the effect of these teratments which are achieved in the same reactors is done through a RBS study. The organic films are partially transformed into a inorganic SiOx ? like film, but the effects are shown to be quite different according to both the deposition process and post-treatment conditions.

Druh

C - Kapitola v odborné knize

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název knihy nebo sborníku

Plasma Polymers and Related Materials

ISBN

975-491-194-0

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

53-58

Počet stran knihy

—

Název nakladatele

Hacettepe University Press

Místo vydání

Ankara

Kód UT WoS kapitoly

—