Vysokorychlostní nízkoteplotní DC puslní magnetronové naprašování tenkých vrstev fotokatalyckého TiO2 : vliv opakovací frekvence

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F07%3A00003912" target="_blank" >RIV/44555601:13440/07:00003912 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/49777513:23520/07:00502196
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency
Popis výsledku v původním jazyce
The article reports on low-temperature high-rate sputtering of hydrophilic transparent TiO2 thin films using dc dual magnetron (DM) sputtering in Ar + O2 mixture on unheated glass substrates. Properties of a thin hydrophilic TiO2 film deposited on a polycarbonate substrate are given.
Název v anglickém jazyce
High-rate low-temperature dc pulsed magnetron sputtering of photocatalytic TiO2 films: the effect of repetition frequency
Popis výsledku anglicky
The article reports on low-temperature high-rate sputtering of hydrophilic transparent TiO2 thin films using dc dual magnetron (DM) sputtering in Ar + O2 mixture on unheated glass substrates. Properties of a thin hydrophilic TiO2 film deposited on a polycarbonate substrate are given.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)