Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Vliv energie při nízkoteplotní vysokorychlostní pulzní magnetronové depozici hydrofilních vrstev TiO2

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000156" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000156 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/49777513:23520/07:00000022

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Titargets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure.

  • Název v anglickém jazyce

    Role of energy in low-temperature high-rate formation of hydrophylic TiO2 thin films using pulsed magnetron sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    The article reports on low-temperature high-rate deposition of hydrophilic TiO2 thin films using dc pulse dual magnetron (DM) sputtering in an Ar+O2 mixture on unheated glass substrates. DM is operated in a bipolar asymmetric mode and is equipped with Titargets 50mm in diameter. Main attention is concentrated on the investigation of the effect of an energy delivered to the TiO2-x film, growing on unheated and heated substrates, by the ion bombardment on its structure.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA106%2F06%2F0327" target="_blank" >GA106/06/0327: Krystalizace amorfních a nanokrystalických tenkých vrstev</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Vacuum Science and Technology A

  • ISSN

    0734-2101

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    9

  • Strana od-do

    666

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus