Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F14%3A%230000008" target="_blank" >RIV/45309787:_____/14:#0000008 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu.

Popis výsledku v původním jazyce

Způsob unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na povrch substrátů a rotační stolek pro unášení substrátů podle způsobu. ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek jevhodný pro povlakování různých substrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod. -Patentová přihláška

Název v anglickém jazyce

Method of carrying substrates for deposition of thin films on exposed substrate surface and rotary table for carrying the substrates based on the method.

Popis výsledku anglicky

Method of carrying of substrates for deposition of thin films and rotary table for carrying the substrates based on the method. Method for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces in vacuum from at least one source of particles, providing homogeneous coating on tilted rotating planets. The rotary table is suitable for the coating of different substrates, for example solar cells, at experimental or pilot applications, but also in mass production. The use of rotarytable can transfer batch coaters with magnetrons or arcs to a device with a better homogeneity of layers, or at the same time with higher capacity at relatively low costs. The solution can be used for metallic coating on flat parts, transparent substrates for optical coatings, silicon wafers etc. Patent application

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Implementace efektivní technologie nanášení tenkých pasivačních a antireflexních vrstev do výroby krystalických solárních článků</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů