Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F14%3A%230000007" target="_blank" >RIV/45309787:_____/14:#0000007 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10016129&lan=cs" target="_blank" >http://isdv.upv.cz/portal/pls/portal/portlets.pts.det?xprim=10016129&lan=cs</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů č. CZ 26777 U1.

Popis výsledku v původním jazyce

Rotační stolek pro unášení substrátů při depozici tenké vrstvy na exponovaný povrch substrátů ve vakuu z alespoň jednoho zdroje částic, přičemž dochází k homogennímu povlakování na šikmo rotující planety. Rotační stolek je vhodný pro povlakování různýchsubstrátů, napříkad solárních článků, pro experimentální nebo poloprovozní aplikace, ale i do provozů s velkoobjemovou výrobou. Použití rotačního stolku dokáže dávková depoziční zařízení s magnetrony či obloukypřeměnit na zařízení s lepší homogenitou vrstev, případně zároveň s vyšší kapacitou a to s relativně malými náklady. Řešení lze použít pro povlakování plochých dílů kovovými vrstvami, průhledných substrátů pro optické vrstvy, křemíkových desek pro elektroniku apod.

Název v anglickém jazyce

Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces, utility model no. CZ 26777 U1.

Popis výsledku anglicky

Rotary table for carrying of substrates for deposition of thin films on exposed substrate surfaces in vacuum from at least one source of particles, providing homogeneous coating on tilted rotating planets. The rotary table is suitable for the coating ofdifferent substrates, for example solar cells, at experimental or pilot applications, but also in mass production. The use of rotary table can transfer batch coaters with magnetrons or arcs to a device with a better homogeneity of layers, or at the sametime with higher capacity at relatively low costs. The solution can be used for metallic coating on flat parts, transparent substrates for optical coatings, silicon wafers etc.

Druh

F_uzit - Užitný vzor

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/FR-TI1%2F603" target="_blank" >FR-TI1/603: Implementace efektivní technologie nanášení tenkých pasivačních a antireflexních vrstev do výroby krystalických solárních článků</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2014

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru

26777

Vydavatel

CZ001 -

Název vydavatele

Industrial Property Office

Místo vydání

Prague

Stát vydání

CZ - Česká republika

Datum přijetí

—

Název vlastníka

HVM Plasma, spol.sr.o.

Způsob využití

B - Výsledek je využíván orgány státní nebo veřejné správy

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence