Zdroj pro technologii HiPIMS s obloukovým odpařováním

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F45309787%3A_____%2F21%3AN0000004" target="_blank" >RIV/45309787:_____/21:N0000004 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/21:00552174
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Zdroj pro technologii HiPIMS s obloukovým odpařováním
Popis výsledku v původním jazyce
Anotace v jazyce práce: V rámci řešení projektu MPO TRIO jsme vyvinuli nový plazmový zdroj kombinující tzv. HiPIMS výboj spolu s nízkotlakým obloukovým výbojem. Vhodně spřažené elektronické řízení HiPIMS výboje spolu se zdrojem plazmového oblouku umožnilo generovat oblouk v daném čase během pulzu HiPIMS výboje. Uvedené řešení se ukázalo jako vhodné pro depozice DLC vrstev na bází amorfního uhlíku s vyšším obsahem sp3 vazeb.
Název v anglickém jazyce
Source for HiPIMS technology with arc evaporation
Popis výsledku anglicky
Within the project MPO TRIO, we have developed a new plasma source combining HiPIMS plasma along with a low-pressure arc discharge. Appropriately coupled electronic control of the HiPIMS discharge together with the plasma arc source made it possible to generate an arc at a selected time during the HiPIMS discharge pulse. This solution proved to be suitable for deposition of DLC layers based on amorphous carbon with higher fraction of sp3 bonds.

Projekt
<a href="/cs/project/FV30177" target="_blank" >FV30177: Výzkum a vývoj nových pulzních plazmových technologií pro depozici pokročilých tenkovrstvých materiálů</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu
FVHA/FZU/2021
Číselná identifikace
—
Technické parametry
Mezní tlak plazmového reaktoru pbkg <1 10-4 Pa HiPIMS zdroj plazmatu – max. výstupní napětí 1 000 V HiPIMS zdroj plazmatu – mas. Střední proud 1 A HiPIMS zdroj plazmatu – pulzní frekvence 10-1 000 Hz HiPIMS zdroj plazmatu – doba pulzu 30 -1 000 µs Zdroj plazmového oblouku pulzní napěťový zdroj Zdroj plazmového oblouku – max. napětí 2 000 V Zdroj plazmového oblouku – typický proud > 10 A/cm2 Rozměr terče 50 mm × 6 mm Maximální střední výkon na magnetron 1 000 W Řízení zapálení obloukového výboje TTL signál s nastavitelným zpožděním vůči HiPIMS pulzu Terč čistý uhlík Pracovní plyn Argon Pracovní tlak < 1 Pa
Ekonomické parametry
Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
68378271
Název vlastníka
Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
V - Výsledek je využíván vlastníkem
Požadavek na licenční poplatek
—
Adresa www stránky s výsledkem
—

Podobné výsledky(10)