Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F22%3A00562105" target="_blank" >RIV/68378271:_____/22:00562105 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128765" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128765</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128765" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2022.128765</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings

Popis výsledku v původním jazyce

A new hybrid PVD deposition system was developed based on the combination of HiPIMS pulsed glow discharge and pulsed cathodic arc discharge (HiPIMS+ARC). The new hybrid HiPIMS+ARC discharge works with modified pulsed high power supplies which allow the initiation of pulsed arc discharge during HiPIMS pulse at the defined time. The initiated arc during the active part of the HiPIMS pulse is quenched at the end of this active part of the pulse when the magnetron cathode is disconnected from the negative voltage of the power supply. Several modifications with HiPIMS sequence of active pulses with arc were tested as well. The hybrid HiPIMS+ARC was applied for the deposition of ta-C thin films by use of a graphite magnetron target.n

Název v anglickém jazyce

Hybrid HiPIMS + controlled pulsed arc for deposition of hard coatings

Popis výsledku anglicky

A new hybrid PVD deposition system was developed based on the combination of HiPIMS pulsed glow discharge and pulsed cathodic arc discharge (HiPIMS+ARC). The new hybrid HiPIMS+ARC discharge works with modified pulsed high power supplies which allow the initiation of pulsed arc discharge during HiPIMS pulse at the defined time. The initiated arc during the active part of the HiPIMS pulse is quenched at the end of this active part of the pulse when the magnetron cathode is disconnected from the negative voltage of the power supply. Several modifications with HiPIMS sequence of active pulses with arc were tested as well. The hybrid HiPIMS+ARC was applied for the deposition of ta-C thin films by use of a graphite magnetron target.n

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/FV30177" target="_blank" >FV30177: Výzkum a vývoj nových pulzních plazmových technologií pro depozici pokročilých tenkovrstvých materiálů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2022

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

446

Číslo periodika v rámci svazku

Sep

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

128765

Kód UT WoS článku

000848099900003

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85135903369