Plazmový surfatron s definovaným tokem iontů pro čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46356541%3A_____%2F23%3AN0000006" target="_blank" >RIV/46356541:_____/23:N0000006 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Plazmový surfatron s definovaným tokem iontů pro čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží

Popis výsledku v původním jazyce

Cílem projektu příjemce byl vývoj prototypu systému plazmového surfatronu s definovaným tokem iontů pro efektivní čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží. Výsledkem je metodika a prototyp zařízení pro vysoce precizní, přesně definované a efektivní čištění povrchu pomocí plazmatu generovaného surfatronem s možností depozice tenkých funkčních vrstev bezprostředně po procesu čištění při zachování podmínek ultravysokého vakua (UHV). Tento efektivní postup umožňuje aplikovatelnost pro povrchy, které jsou charakteristické vysokými požadavky na kvalitu čištění při současném zachování integrity povrchu, např. při výrobě mikroprocesorů. Při vyvinutém konceptu surfatronového čištění dopadají na povrch výrobku částice produkované plazmatem s širokým rozsahem energií dosahujících až 30 eV. Důležitou skutečností je, že plazmatem produkované částice mohou být vysoce reaktivní což ústí v redukci nečistot kontaminujících povrch. Řešení vyvinuté příjemcem přináší zejména výhodu v podobě zastoupení vysokého počtu reaktivních částic s nízkou energií v řádu jednotek eV. Tímto převažuje efekt chemického čištění povrchu před mechanickým bombardem energetických částic, které mohou způsobovat defekty krystalické struktury ošetřovaného povrchu. Výsledkem je vyšší efektivita čištění při zachování maximální šetrnosti čištěného povrchu. Příjemce spolupracoval na vývoji společně s partnerem projektu Jihočeskou univerzitou v Českých Budějovicích.

Název v anglickém jazyce

Plasma surfatron with a defined flow of ions for cleaning sensitive surfaces with a low energy load

Popis výsledku anglicky

The goal of the recipient's project was the development of a prototype plasma surfatron system with a defined ion flow for efficient cleaning of sensitive surfaces with a low energy load. The result is a methodology and a device prototype for highly precise, well-defined and effective surface cleaning using plasma generated by a surfatron with the possibility of depositing thin functional layers immediately after the cleaning process while maintaining ultra-high vacuum (UHV) conditions. This efficient procedure enables applicability for surfaces that are characterized by high requirements for cleaning quality while maintaining the integrity of the surface, e.g. in the manufacture of microprocessors. With the developed concept of surfatron cleaning, particles produced by plasma with a wide range of energies reaching up to 30 eV hit the surface of the product. An important fact is that the particles produced by the plasma can be highly reactive which results in the reduction of impurities contaminating the surface. The solution developed by recipient brings a particular advantage in the form of the representation of a large number of reactive particles with low energy in the order of eV units. In this way, the effect of chemical cleaning of the surface prevails over the mechanical bombardment of energetic particles that can cause defects in the crystalline structure of the treated surface. The result is higher cleaning efficiency while maintaining maximum gentleness of the cleaned surface. The recipient collaborated on the development together with the project partner, the University of South Bohemia in České Budějovice.

Druh

G_prot - Prototyp

CEP obor

—

OECD FORD obor

20501 - Materials engineering

Projekt

<a href="/cs/project/EG20_321%2F0023906" target="_blank" >EG20_321/0023906: Plazmový surfatron s definovaným tokem iontů pro čištění citlivých povrchů s nízkou energetickou zátěží</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2023

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

Plazmový surfatron

Číselná identifikace

—

Technické parametry

Řešení představuje plazmový čistič založený na generaci mikrovlnného výboje s povrchovou vlnou. Mikrovlnný výboj je generován surfatronem. Konstrukce surfatronu využívá dvouplášťového uspořádání s křemennou trubicí uloženou do axiální osy symetrie, v níž vzniká výboj. Jedná se o bezelektrodový, tryskový, plazmatický výboj, vyfukující aktivní částice, které na substrátu redukují nečistoty. Konstrukce trubice zajišťuje vakuovou těsnost a snadnou servisovatelnost využívající montáže skrze standardní přírubu ISO-KF a ISO CF. Řešení je primárně určeno na odstranění oxidových a uhlovodíkových nečistot, ulpělých na površích substrátů v rozsahu několika monovrstev, bez mechanického narušení horních vrstev ošetřované plochy.

Ekonomické parametry

Mezi hlavní přínosy nového řešení pro příjemce patří upevnění postavení na trhu, rozvoj spolupráce s vědeckovýzkumnými organizacemi, zvýšení obratu a tržeb či rozšíření portfolia. Řešení je primárně cíleno na oblast polovodičů, mikro a nanoelektroniky, optiky a opticky aktivních prvků. Šíření povědomí o řešení bude probíhat formou přímého setkání se zákazníkem a seznámení s nabízeným portfoliem, prezentací řešení na webu příjemce, účastí na veletrzích v ČR i v Evropě (zejména v Německu). Řešení cílí zejména na obory požadující: čištění širokého spektra povrhů kovů, skla, keramiky a plastů; aktivaci povrchů před jejich dalším opracováním; změnu povrchové energie povrchu; zvýšení adheze povrchu před nanášením tenkých vrstev; redukci oxidů vázaných na povrchu; funkcionalizaci a vytváření nových funkčních skupin na povrchu; sterilizaci ošetřovaných ploch a další. V následujících 3 letech očekává příjemce tržby z řešení v řádech jednotek až nižších desítek mil. Kč.

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

46356541;60076658

Název vlastníka

LAVAT a.s.;Jihočeská univerzita v Českých Budějovicích

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Požadavek na licenční poplatek

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—