Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F02%3A24210031" target="_blank" >RIV/46747885:24210/02:24210031 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The application of OES as a tool of analyses of an industrial plan operation conditions has been presented. For control of plasma processes reduction of data produced from OES is necessary. Chromatic monitoring has been proposed as a method for data reduction. Based on The chromatic modulation was successfully used for detection of gas composition changes in the nitrogen/hydrogen mixture, end-point detection during plasma etching in oxygen plasma. An investigation of the sensitivity limit of gas monitoring for process control in a down-stream microwave plasma will be presented. A low-cost robust spectrometer for industrial process control will be introduced. Some results of its operation in control of plasma process were presented.

  • Název v anglickém jazyce

    Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control

  • Popis výsledku anglicky

    The application of OES as a tool of analyses of an industrial plan operation conditions has been presented. For control of plasma processes reduction of data produced from OES is necessary. Chromatic monitoring has been proposed as a method for data reduction. Based on The chromatic modulation was successfully used for detection of gas composition changes in the nitrogen/hydrogen mixture, end-point detection during plasma etching in oxygen plasma. An investigation of the sensitivity limit of gas monitoring for process control in a down-stream microwave plasma will be presented. A low-cost robust spectrometer for industrial process control will be introduced. Some results of its operation in control of plasma process were presented.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2002

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    3rd European Advanced Equipment Control /Advanced Process Control Conference

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

    117

  • Název nakladatele

    Technologie Zentrum Dresden GmbH

  • Místo vydání

    Dresden, Německo

  • Místo konání akce

    Dresden, Německo

  • Datum konání akce

    1. 1. 2002

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku