Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F02%3A24210031" target="_blank" >RIV/46747885:24210/02:24210031 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control
Popis výsledku v původním jazyce
The application of OES as a tool of analyses of an industrial plan operation conditions has been presented. For control of plasma processes reduction of data produced from OES is necessary. Chromatic monitoring has been proposed as a method for data reduction. Based on The chromatic modulation was successfully used for detection of gas composition changes in the nitrogen/hydrogen mixture, end-point detection during plasma etching in oxygen plasma. An investigation of the sensitivity limit of gas monitoring for process control in a down-stream microwave plasma will be presented. A low-cost robust spectrometer for industrial process control will be introduced. Some results of its operation in control of plasma process were presented.
Název v anglickém jazyce
Optical diagnostic as a simple and cheap tool for process control
Popis výsledku anglicky
The application of OES as a tool of analyses of an industrial plan operation conditions has been presented. For control of plasma processes reduction of data produced from OES is necessary. Chromatic monitoring has been proposed as a method for data reduction. Based on The chromatic modulation was successfully used for detection of gas composition changes in the nitrogen/hydrogen mixture, end-point detection during plasma etching in oxygen plasma. An investigation of the sensitivity limit of gas monitoring for process control in a down-stream microwave plasma will be presented. A low-cost robust spectrometer for industrial process control will be introduced. Some results of its operation in control of plasma process were presented.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2002
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
3rd European Advanced Equipment Control /Advanced Process Control Conference
ISBN
—
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
1
Strana od-do
117
Název nakladatele
Technologie Zentrum Dresden GmbH
Místo vydání
Dresden, Německo
Místo konání akce
Dresden, Německo
Datum konání akce
1. 1. 2002
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—