3D objekt zapsaný pomocí metody Nanogravure s optimalizovanou prostorovou aproximací difraktivních schodů

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F48950076%3A_____%2F18%3AN0000002" target="_blank" >RIV/48950076:_____/18:N0000002 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

3D objekt zapsaný pomocí metody Nanogravure s optimalizovanou prostorovou aproximací difraktivních schodů

Popis výsledku v původním jazyce

Funkční vzorek byl připraven expozicí grafického návrhu ve formě datového zápisu na elektronovém litografu. 3D holografický objekt byl zapsán novou metodou pomocí nelineární mřížky generovatelné pouze na elektronovém litografu. Byly optimalizovány soustavy difraktivních schodů do velikosti 0,5 mikrometru pomocí metody povrchového tavení, což vede ke zvýšení prostorového vjemu a k odstranění parazitních difrakcí. Funkční vzorek je tvořený mřížkou se stejně širokými čtyřmi schody (300 nm), kdy tavení probíhalo po dobu 5 min při 125°C. Díky novému způsobu výpočtu difraktivních mřížek jsme dosáhli plné kontroly nad hloubkami a úhly mřížek.

Název v anglickém jazyce

3D object written using the Nanogravure method with optimized spatial approximation of diffractive stairs

Popis výsledku anglicky

The functional sample was prepared by displaying the graphic design in the form of a data record on an electron lithograph. The 3D holographic object was written using a new method using a non-linear grid that can only be generated on an electron lithograph. Systems of diffractive stairs up to 0.5 micrometers were optimized by the surface melting method, resulting in increased spatial perception and removal of parasitic diffraction. The functional sample consists of a grid with the same four stairs (300 nm), where the melting was performed for 5 min at 125 ° C. Thanks to the new way of calculating diffractive grids, we have achieved full control over the depths and angles of the grids.

Druh

G_funk - Funkční vzorek

CEP obor

—

OECD FORD obor

21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Projekt

<a href="/cs/project/FV20020" target="_blank" >FV20020: Fotonické struktury v bezpečnostní holografii (Modelování a návrh fotonických struktur pro bezpečnostní hologramy)</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

FV20182

Číselná identifikace

G FV20182

Technické parametry

Funkční vzorek byl připraven expozicí grafického návrhu ve formě datového zápisu na elektronovém litografu. 3D holografický objekt byl zapsán novou metodou pomocí nelineární mřížky generovatelné pouze na elektronovém litografu. Byly optimalizovány soustavy difraktivních schodů do velikosti 0,5 mikrometru pomocí metody povrchového tavení, což vede ke zvýšení prostorového vjemu a k odstranění parazitních difrakcí. Funkční vzorek je tvořený mřížkou se stejně širokými čtyřmi schody (300 nm), kdy tavení probíhalo po dobu 5 min při 125°C. Díky novému způsobu výpočtu difraktivních mřížek jsme dosáhli plné kontroly nad hloubkami a úhly mřížek. Postup přípravy vzorku: 1. Příprava dat 2. Nový způsob výpočtu mřížek v programu Blender 3. Efektivnější algoritmus uspořádání difraktivních schodů 4. Expozice dat na elektronovém litografu do vrstvy fotoresistu 5. Vyvolání expozice na niklový podklad

Ekonomické parametry

Zvýšení množství nabízených produktů - ochraných holografických struktur určených proti padělání dokumentů a cenin

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

48950076

Název vlastníka

OPTAGLIO a.s.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence

Požadavek na licenční poplatek

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—