Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

XRD real structure characterization of sputtered Au films different in thickness

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23210%2F11%3A43895750" target="_blank" >RIV/49777513:23210/11:43895750 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/49777513:23640/11:43895750

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    XRD real structure characterization of sputtered Au films different in thickness

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The thin gold films were prepared by DC plasma sputtering in argon atmosphere on glass substrates with different sputtering times. On experimental samples with thicknesses from 10 to 90 nm the XRD structural analysis was carried out in order to observe the real structure changes in dependence on the film thickness. The XRD analysis included calcula-tion of lattice parameters, biaxial stress and size of the crystallites and micro-strains. A sim-ple evaluation of preferred orientation of crystallites perpendicular to the sample surface using the integral intensities ratio of two strongest diffraction lines was also performed. The results show strong dependence of all parameters on thickness of Au films. The size of the crystallites is linearly increasingwith growing film thickness whereas the lattice parameter is decreasing. The course of micro-strain and biaxial lattice stress is rapidly changing with increasing thickness of gold films due to relaxation of the structure.

  • Název v anglickém jazyce

    XRD real structure characterization of sputtered Au films different in thickness

  • Popis výsledku anglicky

    The thin gold films were prepared by DC plasma sputtering in argon atmosphere on glass substrates with different sputtering times. On experimental samples with thicknesses from 10 to 90 nm the XRD structural analysis was carried out in order to observe the real structure changes in dependence on the film thickness. The XRD analysis included calcula-tion of lattice parameters, biaxial stress and size of the crystallites and micro-strains. A sim-ple evaluation of preferred orientation of crystallites perpendicular to the sample surface using the integral intensities ratio of two strongest diffraction lines was also performed. The results show strong dependence of all parameters on thickness of Au films. The size of the crystallites is linearly increasingwith growing film thickness whereas the lattice parameter is decreasing. The course of micro-strain and biaxial lattice stress is rapidly changing with increasing thickness of gold films due to relaxation of the structure.

Klasifikace

  • Druh

    O - Ostatní výsledky

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA106%2F09%2F0125" target="_blank" >GA106/09/0125: Příprava a vlastnosti struktur kov/polymer</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů