Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

<<The>> effect of Al composition on the microstructure and mechanical properties of WC-TiAlN superhard composite coating

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F01%3A00064885" target="_blank" >RIV/49777513:23520/01:00064885 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    <<The>> effect of Al composition on the microstructure and mechanical properties of WC-TiAlN superhard composite coating

  • Popis výsledku v původním jazyce

    WC-Ti(1-x)AlxN nc-films were deposited on WC-Co and Si substrates using a multi-cathode arc ion-plating system. The microstructure and mechanical properties of the films were investigated to find out the nanostructured film growth mechanism. The microstructure of the WC-Ti(1-x)AlxN films depend on the Al concentration (x). The residual stress in WC-Ti(1-x)AlxN films was independent of the x value and measured to be approximately 6.5 GPa. The microhardness of WC-Ti(1-x)AlxN film was measured to be in therange of 38-50 GPa. So, we believe that the nanocrystalline microstructure of the film is of fundamental importance for the dramatic enhancement of film hardness.

  • Název v anglickém jazyce

    <<The>> effect of Al composition on the microstructure and mechanical properties of WC-TiAlN superhard composite coating

  • Popis výsledku anglicky

    WC-Ti(1-x)AlxN nc-films were deposited on WC-Co and Si substrates using a multi-cathode arc ion-plating system. The microstructure and mechanical properties of the films were investigated to find out the nanostructured film growth mechanism. The microstructure of the WC-Ti(1-x)AlxN films depend on the Al concentration (x). The residual stress in WC-Ti(1-x)AlxN films was independent of the x value and measured to be approximately 6.5 GPa. The microhardness of WC-Ti(1-x)AlxN film was measured to be in therange of 38-50 GPa. So, we believe that the nanocrystalline microstructure of the film is of fundamental importance for the dramatic enhancement of film hardness.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ME%20203" target="_blank" >ME 203: Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    02578972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    Vol. 142

  • Číslo periodika v rámci svazku

    leden

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    7

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus