Složení, struktura, mikrotvrdost a zbytkové pnutí W-Ti-N vrstev deponovaných reaktivním magnetronovým naprašováním

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F02%3A00000091" target="_blank" >RIV/49777513:23520/02:00000091 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Composion, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering

Popis výsledku v původním jazyce

W-Ti-N films were deposited by reactive DC magnetron sputtering from a W-Ti (30 at.%) target, in a mixture of argon and nitrogen at a total pressure of 0.5 Pa, onto steel and silicon substrates. The crystal structure, microstructure, composition, micro-hardness and residual stress were studied as a function of the partial pressure of nitrogen. The microhardness of the W-Ti-N films increased with increasing nitrogen concentration from 25 GPa for [N] = 0 up to a maximum of approximately 65 GPa at [N] = 25at.%. The maximum microhardness was found in films that simultaneously possessed: 1.the presence of two crystalline phases; 2.large microstrain; and 3.relatively low compressive residual stress.

Název v anglickém jazyce

Composion, structure, microhardness and residual stress of W-Ti-N films deposited by reactive magnetron sputtering

Popis výsledku anglicky

W-Ti-N films were deposited by reactive DC magnetron sputtering from a W-Ti (30 at.%) target, in a mixture of argon and nitrogen at a total pressure of 0.5 Pa, onto steel and silicon substrates. The crystal structure, microstructure, composition, micro-hardness and residual stress were studied as a function of the partial pressure of nitrogen. The microhardness of the W-Ti-N films increased with increasing nitrogen concentration from 25 GPa for [N] = 0 up to a maximum of approximately 65 GPa at [N] = 25at.%. The maximum microhardness was found in films that simultaneously possessed: 1.the presence of two crystalline phases; 2.large microstrain; and 3.relatively low compressive residual stress.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

—

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

12

Strana od-do

136

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—